发明名称 光学记录媒体染料、光学记录媒体及其制造方法
摘要 一种光学记录媒体染料、光学记录媒体及其制造方法,光学记录媒体染料,为一种bis-styryl染料,有如下化学式(I)的化学结构:其中,Y是选自氧原子、硫原子、含取代基的碳或氮原子其中之一。R<SUP>1</SUP>是选自碳数1至18(“C<SUB>1-18</SUB>”)的烷基、苯基、含有卤素原子的烷基、烷氧取代基或酮取代基的C<SUB>1-18</SUB>的烷基、C<SUB>1-18</SUB>的醚基及对二烷基苯其中之一。R<SUP>2</SUP>、R<SUP>3</SUP>、R<SUP>7</SUP>可为相同或不同的基团,其是选自氢原子、卤素原子的烷基、C<SUB>1-8</SUB>的烷氧基、C<SUB>1-8</SUB>的烷酯基、羧基、C<SUB>1-8</SUB>的烷氧羰基、C<SUB>1-6</SUB>的烷基铵次烃基氧羰基、金刚烷基、氨基、胺基、硫磺基、硫基、硼酸、硝基、三氟甲基、氟化磺酸基、磺酸基、羟基、二茂铁基、氰基、杂环及含氮杂环其中之一。R<SUP>4</SUP>是选自氢原子、烷基、烷氧基、卤素原子、硝基、磺酸基、酸基、磺酸基或不含取代基的苯环其中之一。X是选自卤素原子、ClO<SUB>4</SUB><SUP>-</SUP>BF<SUB>4</SUB><SUP>-</SUP>、BPh<SUB>4</SUB><SUP>-</SUP>、PF<SUB>6</SUB><SUP>-</SUP>、SbF<SUB>6</SUB><SUP>-</SUP>、TCNQ<SUP>-</SUP>、TCNE<SUP>-</SUP>、苯磺酸根、苯磺酸盐及有机金属错合物其中之一。
申请公布号 CN1553445A 申请公布日期 2004.12.08
申请号 CN03140815.X 申请日期 2003.06.04
申请人 财团法人工业技术研究院 发明人 李明家;廖文毅;黄建喨;颜春福;郑尊仁;谢静玉;王心心;蔡蕙冰;赖启昌;马骥骅;杨忠烈
分类号 G11B7/24;C09B23/00;B41M5/26 主分类号 G11B7/24
代理机构 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 代理人 寿宁;张华辉
主权项 1、一种光学记录媒体染料,为应用于光盘记录系统的bis-styryl染料,其特征在于其具有如下式(I)的化学式:<img file="A031408150002C1.GIF" wi="873" he="1090" />Y是选自氧原子、硫原子、含取代基的碳原子(C-R<sup>5</sup>)、以及含取代基的氮原子(N-R<sup>6</sup>)其中之一。R<sup>1</sup>是选自碳数1至18(”C<sub>1-18</sub>”)的烷基(alkyl group)、苯基、含有卤素原子(halogen atom)的烷基、烷氧取代基(alkoxyl group substitute)的C<sub>1-18</sub>的烷基、C<sub>1-18</sub>的醚基(ether group)、酮基(ketone group)的C<sub>1-18</sub>的烷基、以及对二烷基苯(p-alkyl benzyl group)其中之一。R<sup>2</sup>、R<sup>3</sup>、R<sup>5</sup>、R<sup>6</sup>、R<sup>7</sup>可为相同或不同的基团,其是选自氢原子、卤素原子、碳数1至8(”C<sub>1-8</sub>”)的烷基、C<sub>1-8</sub>的烷氧基(alkoxyl group)、C<sub>1-8</sub>的烷酯基(alkylate group)、羧基(carboxyl group)、C<sub>1-8</sub>的烷氧羰基(alkoxycarbonyl group)、C<sub>1-6</sub>的烷基铵次烃基氧羰基(alkylaminealkylenecarboxy group)、金刚烷基(adamantyl group)、氨基(amide group)、胺基(amino group,N-R<sub>2</sub>)、硫磺基(sulfo group)、硫基(sulfonyl group)、硼酸(boronic acid)、硝基(nitro group,NO<sub>2</sub>)、三氟甲基(trifluoromethyl group)、氟化磺酸基(sulfonic acid fluoridegroup)、磺酸基(sulfonic acid group)、羟基(hydroxyl group)、二茂铁基(ferrocenyl group)、氰基(cyano group,CN)、杂环(heterocyclicgroup)、以及含氮杂环(nitrogen containing heterocyclic group)其中之一。R<sup>4</sup>是选自氢原子、烷基、烷氧基、卤素原子、硝基、磺酸基、酸基、磺酸基(sulfonic acid group)、含取代基或不含取代基的苯环其中之一。X是选自卤素原子、过氯酸根(perchlora te,ClO<sub>4</sub><sup>-</sup>)、四氟硼酸根(fluoroborate,BF<sub>4</sub><sup>-</sup>)、四苯硼酸根(tetraphenyl boron,BPh<sub>4</sub><sup>-</sup>)、六氟磷酸根(hexfluorophoshpate,PF<sub>6</sub><sup>-</sup>)、六氟锑酸根(hexfluoroantimonate,SbF<sub>6</sub><sup>-</sup>)、四氰代二甲基苯离子(7,7′,8,8′-tetracyanoquinonedimethane,TCNQ<sup>-</sup>)、四环氰基乙烯离子(tetracyanoethylene,TCNE<sup>-</sup>)、苯磺酸根(naphthalenesulfonic acid)、苯磺酸盐(benzenesulfonates)及有机金属错合物(organometallic complex)其中之一。
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