发明名称 清洁介电物表面之方法
摘要 本发明系关于一种用以改良一高介电常数材料的化学性和电子效能特性之方法。此方法包含之步骤计有:首先获取一包含高介电常数材质的钡(此材料具有一上表面),然后在一封闭环境下以一气体反应物与该上表面交互作用,以修正该上表面的表面化学性。在本方的一变化方法中与介质的大部分比较起来。气体反应物最好与上表面交互作用
申请公布号 TW345716 申请公布日期 1998.11.21
申请号 TW086107089 申请日期 1997.05.26
申请人 万国商业机器公司 发明人 大卫E.寇提基;彼德R.当肯;威斯立那左;清芬余;罗伯特B.雷波兹
分类号 H01L21/70 主分类号 H01L21/70
代理机构 代理人 陈长文 台北巿敦化北路二○一号七楼
主权项 1.一种用以形成高介电电容的方法,包含: (a)获得一包含高介电常数材质的钡,此含有高介电常数材质的钡具有一上表面和一大部分;和(b)利用在一封闭环境内以气体与该上表面交互作用的方式修改该上表面的表面化学性。2.根据申请专利范围第1项之方法,其中与该大部分比较起来,该气体反应物最好系与该上表面交互作用。3.根据申请专利范围第1项之方法,当包含下列步骤:首先刷洗该上表面,然后以一乾燥装置乾燥该上面,接着在一封闭环境下以该气体与该上表面交互作用。4.根据申请专利范围第3项之方法,尚包含下列步骤,在一封闭环境下第二次以气体反应物与该上表面交互作用,接着做第二次的刷洗该上表面,然后以一乾燥装置乾燥该上面。5.根据申请专利范围第3项之方法,其中该刷洗步骤使用去离子水,和该乾燥装置系采一吹乾式乾燥法,一旋转式乾燥法或其联合的其中之一。6.根据申请专利范围第4项之方法,其中该刷洗步骤使用去离子水,和该乾燥装置系采一吹乾式乾燥法,一旋转式乾燥法或其联合的其中之一;和该第二次刷洗步骤使用去离子水,和该第二次乾燥装置采一吹乾式乾燥法,一旋转式乾燥法或其联合的其中之一。7.根据申请专利范围第1项之方法,其中该气体反应物包含HF。8.根据申请专利范围第1项之方法,其中该气体反应物包含HF和NH3的混合物。9.根据申请专利范围第1项之方法,尚包含在一封闭环境下以一气体反应物与该上表面交互作用后加热该含高介电常数材质的钡到至少275℃。10.根据申请专利范围第1项之方法,其中该高介电常数材质选自于由(Ba,Sr)TiO3和BaTiO3所组成的群组中。11.根据申请专利范围第10项之方法,其中该高介电常数材质为(Ba,Sr)TiO3。12.一种高介电电容,包含:(a)一具有一上表面的导电基质;(b)一设于该导电基质的上表面上,含有高介电常数材质的钡,该含高介电常数的钡具有一上表面,此含材质的钡之上表面系藉着在一封闭环境下以一气体反应物与该含材质的钡交互作用的方式修正之。13.根据申请专利范围第12项之电容,其中该含高介电常数材质的钡之温度至少设为约275℃。14.根据申请专利范围第13项之电容,其中一上方的金属层系沉积于该含高介电常数材质的钡上,而该高介电材质之温度设在的至少275℃。15.根据申请专利范围第12项之电容,其中该含高介电常数材质的钡之上表面此该含高介电常数材质的钡之大部分所含的钡浓度为低。图式简单说明:第一图所示为高介电常数材质的截面视图,包括其下方的结构。
地址 美国