| 发明名称 | 一般波长或长波长光接触接近纳米光刻光学装置 | ||
| 摘要 | 一般波长或长波长光接触接近纳米光刻光学装置，由光源(3)、镜组(2)、反射镜(1)和镜组(4)组成的均匀照明系统照明掩模，并使接触接近放置的硅片(7)上的抗蚀剂涂层(6)感光，其特征在于：均匀照明系统的光源(3)是一般波长或长波长激光，镜组(1)和镜组(4)是聚焦扩束准直均匀照明镜组，在均匀照明位置放置的掩模是金属掩模(5)，它与安放在其下方的高分辨率抗蚀剂涂层(6)之间距离为0.005－1000μm。本发明用193－1000nm任意波长激光照明金属掩模，激发金属掩模表面等离子体，通过等离子波传播，出射小发散角光用于光刻，不受衍射极限的限制，不需要复杂昂贵的极短波长光源，就可制作出纳米量级的图形。 | ||
| 申请公布号 | CN1553284A | 申请公布日期 | 2004.12.08 |
| 申请号 | CN03123574.3 | 申请日期 | 2003.05.29 |
| 申请人 | 中国科学院光电技术研究所 | 发明人 | 陈旭南;罗先刚;田宏;石建平 |
| 分类号 | G03F7/00;G03F7/20;H01S5/00 | 主分类号 | G03F7/00 |
| 代理机构 | 北京科迪生专利代理有限责任公司 | 代理人 | 刘秀娟;卢纪 |
| 主权项 | 1、一般波长或长波长光接触接近纳米光刻光学装置，由光源(3)、镜组(2)、反射镜(1)和镜组(4)组成的均匀照明系统照明掩模，并使接触接近放置的硅片(7)上的抗蚀剂涂层(6)感光，其特征在于：均匀照明系统的光源(3)是一般波长或长波长激光，镜组(1)和镜组(4)是聚焦扩束准直均匀照明镜组，在均匀照明位置放置的掩模是金属掩模(5)，它与安放在其下方的高分辨率抗蚀剂涂层(6)之间距离为0.005-1000μm。 | ||
| 地址 | 610209四川省成都市双流350信箱 | ||