发明名称 |
Plasmabehandlung zur Reinigung von Kupfer oder Nickel |
摘要 |
Ein Verfahren zur Behandlung von elektronischen Bauteilen, die aus Kupfer oder Nickel oder ihren Legierungen untereinander oder mit anderen Materialien wie etwa Messing hergestellt sind oder damit überzogen sind, umfaßt folgende Schritte: DOLLAR A Evakuieren der Behandlungskammer; Einleiten von Sauerstoff in die Behandlungskammer; Anregen eines Plasmas in der Kammer; Einwirken von Sauerstoffradikalen auf die Bauelemente; Auspumpen der Kammer; Einleiten von Wasserstoff in die Behandlungskammer; Anregen eines Plasmas in der Kammer; Einwirken von Wasserstoffradikalen auf die Bauelemente.
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申请公布号 |
DE10320472(A1) |
申请公布日期 |
2004.12.02 |
申请号 |
DE20031020472 |
申请日期 |
2003.05.08 |
申请人 |
KOLEKTOR D.O.O., IDRIJA |
发明人 |
MOZETIC, MIRAN;CVELBAR, UROS |
分类号 |
B08B7/00;B23K1/20;C23G5/00;(IPC1-7):C23G5/00;H05K3/26 |
主分类号 |
B08B7/00 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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