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Eine ECR-IQ, bestehend aus dem Vakuumeinschluß (2), des µ-Wellenresonators cavity (1), dem Hohlleiter (14) und dem Einkoppelschlitz (15), Fig. 1, sowie dem Strahlführungssystem, Fig. 2 und Fig. 3. Für bestimmte Prozesse ist es vorteilhaft, den Vakuumeinschluß (2), die cavity (1), den Hohlleiter (14) und den Einkoppelschlitz (15), Fig. 1, zu vereinen. Weiter den Flanschen (4 u. 5) mit dem Gaseinlaß (10), dem Targethalter und Target (12 u. 13) und dem Laserfenster (11)zur Einleitung der Laserenergie mit Zielpunkt Target (13), Fig. 1. Flansch (5) mit Plasmaelektrode (7), Fig. 1, oder Plasmagitter (17), Fig. 3. Der Magnetfeldeinschluß (3 u. 6), Fig. 1, sind radial und axial einstellbar. Die ECR-IQ ist zur Ableitung der Betriebswärme mit einer Kühlgaszirkulation (16) Fig.1u.7 ausgestattet. Flansch (5) und Plasmaelektrode (7), Fig. 1, folgen in den Isolatoren (8), Fig. 2, die Ionenstrahl-Steuerelemente (9 u. 18), Fig. 2, und (19. u. 17), Fig. 3. Die Plasmaelektrode (7), Fig. 1 u. Fig. 2, ist Bestandteil der Ionenstrahl-Steuerelemente. Die Reihenfolge wird durch den Prozeß bestimmt. Eine weitere Anwendung/Aufgabe der Erfindung ist die Erzeugung hochgeladener Ionen unterhalb einer Betriebsfrequenz von 7 G Hz. Die erfindungsgemäße ECR-IQ 2,45 G Hz erzeugt einen Plasmastrahl/Ionenstrahl unter Ausschaltung des magnetischen Längsfeldes (6), Fig. 1,u.(3o)Fig.9u.11. Fig. 4 zeigt eine vorteilhafte Ausgestaltung der erfindungsgemäßen Vorrichtung,weitere Ausgestaltung gemäß Fig.9,1o,11u.12. <IMAGE>
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