| 发明名称 |
Verfahren zur Herstellung einer Kontaktschicht |
| 摘要 |
|
| 申请公布号 |
DE10014917(B4) |
申请公布日期 |
2004.12.02 |
| 申请号 |
DE2000114917 |
申请日期 |
2000.03.17 |
| 申请人 |
INFINEON TECHNOLOGIES AG |
发明人 |
SCHMIDBAUER, SVEN;URBANSKY, NORBERT |
| 分类号 |
H01L21/768;(IPC1-7):H01L21/285;C23C14/34 |
主分类号 |
H01L21/768 |
| 代理机构 |
|
代理人 |
|
| 主权项 |
|
| 地址 |
|
