发明名称 半导体装置
摘要 提供打线焊点和第2配线层以及绝缘膜之密接性良好,且即使由上方对打线焊点施加应力,也可避免打线焊点和第2配线层之间的绝缘膜产生龟裂之半导体装置。在半导体积体电路11a中,令其他配线12避开打线焊点1的相对之2个边7a、7b正下方或内引脚8的相对之2个边9a、9b正下方而形成。作为其之一例,设其他配线12的可形成领域为除了边7a、7b正下方和内引脚8的边9a、9b正下方之边7a正下方和边9a正下方之间的领域13a,以及边7b正下方和边9b正下方之间的领域13b。另外,设形成在其他配线12上之绝缘膜5只由无机绝缘膜所形成之膜。
申请公布号 TW200426961 申请公布日期 2004.12.01
申请号 TW093109606 申请日期 2004.04.07
申请人 夏普股份有限公司 发明人 铃木岳洋
分类号 H01L21/60 主分类号 H01L21/60
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 日本