发明名称 用于喷嘴排出式涂敷法之正型光阻组成物及光阻图型之形成方法
摘要 具有使排出喷嘴与基板相对移动将正型光阻组成物涂敷于基板之涂敷面全面之过程的喷嘴排出式涂敷法所用之正型光阻组成物,其特征为:含有(A)聚苯乙烯换算质量平均分子量(Mw)6000以上之硷可溶酚醛清漆树脂,(C)含有二叠氮基之化合物,以及(D)有机溶剂而成。
申请公布号 TW200426515 申请公布日期 2004.12.01
申请号 TW093108900 申请日期 2004.03.31
申请人 东京应化工业股份有限公司 发明人 森尾公隆;青木知三郎;加藤哲也;中岛哲矢
分类号 G03F7/039 主分类号 G03F7/039
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 日本