首页
产品
黄页
商标
征信
会员服务
注册
登录
全部
|
企业名
|
法人/股东/高管
|
品牌/产品
|
地址
|
经营范围
发明名称
用于喷嘴排出式涂敷法之正型光阻组成物及光阻图型之形成方法
摘要
具有使排出喷嘴与基板相对移动将正型光阻组成物涂敷于基板之涂敷面全面之过程的喷嘴排出式涂敷法所用之正型光阻组成物,其特征为:含有(A)聚苯乙烯换算质量平均分子量(Mw)6000以上之硷可溶酚醛清漆树脂,(C)含有二叠氮基之化合物,以及(D)有机溶剂而成。
申请公布号
TW200426515
申请公布日期
2004.12.01
申请号
TW093108900
申请日期
2004.03.31
申请人
东京应化工业股份有限公司
发明人
森尾公隆;青木知三郎;加藤哲也;中岛哲矢
分类号
G03F7/039
主分类号
G03F7/039
代理机构
代理人
林志刚
主权项
地址
日本
您可能感兴趣的专利
转移印花布(45)
瓷砖(7)
花布(102)
彩膜(格拉斯GL-011)
饮料瓶(1)
行走轮(105)
瓷砖(1)
标贴(八)
蜂蜜瓶(益母草蜂蜜)
茶叶包装盒
剪纸(桃园人家)
转移印花布(87)
试管
转移印花布(86)
鼠标垫(夜猫咪)
行走轮(36)
花布(77)
转移印花布(76)
学校指示挂牌
电热水袋(3)