于一微影投射装置中监视聚焦点

摘要

本发明提供一种微影投射装置以及使用该装置来制造设备之方法，其中该装置包含一水平感测器，以于复数个点处量测一晶圆之高度。将高度资讯发送到一处理器，配置该处理器以使用来自该水平感测器之输入创建一所量测高度之映射。根据本发明，亦配置该处理器以使用该所量测高度之映射来计算平均晶粒拓扑，从而产生该基板之该表面之一未加工之高度映射并使用该未加工之高度映射来侦测该基板之该表面上的任何聚焦点。藉由扣除平均晶粒拓扑，可较从前更为精确地定位聚焦点。