基板之处理系统及半导体装置之制造方法

摘要

本发明之目的在于，完全去除由于清洗而附着在基板上之水分，将该基板在去除水分之状态下搬送到成膜装置中。本发明提供一种基板之处理系统，具有：利用清洗液来清洗基板之清洗装置；去除附着在利用上述清洗装置清洗之基板上之水分的水分去除装置；以及搬送部，用以将利用上述水分去除装置去除水分之基板通过乾燥大气搬送到基板之其他处理装置中。