发明名称 利用坩埚旋转控制温度梯度以制备单晶矽之方法
摘要 本发明系针对一种制备单晶矽之方法,呈晶棒或晶圆式,其中利用坩埚旋转控制晶体中的平均轴向温度梯度,G0,做为半径的函数(即(G0(r)),特别是中心轴或附近处。此外,利用坩埚旋转调变来获得其中轴向一致的氧含量。
申请公布号 TW200426255 申请公布日期 2004.12.01
申请号 TW092131558 申请日期 2003.11.11
申请人 MEMC电子材料公司 发明人 卢强;史蒂芬L. 金伯尔;陶颖
分类号 C30B13/28 主分类号 C30B13/28
代理机构 代理人 陈长文
主权项
地址 美国