用以形成含有锆及/或铪之层的系统与方法

摘要

一种在基材上形成含有锆及／或铪之层之方法(与形成彼之设备)，该基材特别是半导体基材或基材组合体，该方法系使用气相沈积法与一或多种化学式为Si(OR)4之矽先质化合物以及一或多种化学式为M(NR’R”)4之锆及／或铪先质化合物，其中R、R’与R”分别为一有机基团，而M系锆或铪。