发明名称 负型光阻组成物
摘要 本发明系于基板上设置下层膜,于该下层膜设置由负型光阻组成物所成之光阻膜,该光阻膜经选择性曝光后,该下层膜与该光阻膜同时以显影处理之图像形成方法,提供可得到良好解像性之负型光阻组成物。此组成物系含有(A)硷可溶性树脂,(B)由照射放射线产生酸之酸产生剂,及(C)交联剂,上述(B)酸产生剂为含有阳离子不具有亲水性基之盐。
申请公布号 TW200426508 申请公布日期 2004.12.01
申请号 TW093113498 申请日期 2004.05.13
申请人 东京应化工业股份有限公司 发明人 广崎贵子;新堀博
分类号 G03F7/038 主分类号 G03F7/038
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 日本