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发明名称
负型光阻组成物
摘要
本发明系于基板上设置下层膜,于该下层膜设置由负型光阻组成物所成之光阻膜,该光阻膜经选择性曝光后,该下层膜与该光阻膜同时以显影处理之图像形成方法,提供可得到良好解像性之负型光阻组成物。此组成物系含有(A)硷可溶性树脂,(B)由照射放射线产生酸之酸产生剂,及(C)交联剂,上述(B)酸产生剂为含有阳离子不具有亲水性基之盐。
申请公布号
TW200426508
申请公布日期
2004.12.01
申请号
TW093113498
申请日期
2004.05.13
申请人
东京应化工业股份有限公司
发明人
广崎贵子;新堀博
分类号
G03F7/038
主分类号
G03F7/038
代理机构
代理人
林志刚
主权项
地址
日本
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