发明名称 操纵度量光束与定其路线之装置及方法
摘要 本发明揭示一种配置有一操纵一辐射度量光束之至少一部分与定其路线之装置及方法之微影投影设备。该装置包含一第一及一第二光学楔片,其中该第二光学楔片与该第一光学楔片具有一关于彼此的相对位置。该度量光束之该至少一部分沿着一进入光轴在该第一光学楔片之一第一主表面进入该装置,穿过该等第一及第二光学楔片,然后在该第二光学楔片之一第二主表面射出。该等第一及第二光学楔片系配置成藉由改变该等第一及该第二光学楔片之该相对位置相对于该进入光轴至少旋转或平移该度量光束之该至少一部分。
申请公布号 TW200426530 申请公布日期 2004.12.01
申请号 TW093105425 申请日期 2004.03.02
申请人 ASML公司 发明人 英葛博斯 安东尼斯 法兰西斯 范 德 帕齐;, ENGELBERTUS ANTONIUS FRANSISCUS;玛皆尔 亨利卡斯 玛丽亚 比恩斯;MARIA;爱米尔 乔赛夫 米莱尼 忧森;英葛博斯 乔汉那斯 捷恩 克里登;JOHANNES JEROEN
分类号 G03F7/20 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人 陈长文
主权项
地址 荷兰