制造系统LCD用正型光阻组成物及光阻图型形成方法POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION FOR SYSTEM LCD PRODUCTION AND RESIST PATTERN FORMATION METHOD

摘要

本发明系提供在系统LCD制造用为恰当，高感度与高解像性为并存之正型光阻组成物，及光阻图型形成方法。该正型光阻组成物系含有，(A)硷可溶性树脂，(B)二叠氮基酯化物，(C)分子量为1000以下之含苯酚性羟基化合物，及(D)有机溶剂，如此所成之光阻组成物，其中，(B)成分系含有，下述一般式(I)所示之化合物与1，2－二叠氮基－4－磺醯基化合物之酯化反应生成物，在一个基板上可形成集成电路与液晶显示器部分之LCD制造用正型光阻组成物。093112515-p01.bmp