发光设备及其制造方法

摘要

本发明提供了一种发光设备，系于该基板之形成有发光装置的面上形成具有复数个凹凸结构的不均匀表面。各相邻凹凸结构之间的平均间隔Sm或是凹凸结构之各相邻突起峰顶间的平均间隔S，都不会小于由发光层产生光之最长波长的三倍且不会大于该最长波长的两百倍。该不均匀表面的算术平均斜率△a系落在4°≦△a≦30°的范围内。因此，本发明的发光设备实质上可自光粹取侧发射更大量额的光且其亮度不均匀度会小于不含任何不均匀表面之发光设备的亮度不均匀度。