| 摘要 |
本发明为提供一种于浸渍微影(immersion lithography)处理步骤中所使用之溶媒具有安定性，且具有优良感度、优良光阻图案外观形状之光阻组成物，及使用该光阻组成物之光阻图案之形成方法。其为包含属于某一参数范围之光阻组成物，或含有酸解离性溶解抑制基，可因酸作用而增大硷可溶性之树脂成份(A)，与酸产生剂成分(B)，与有机溶剂，且前述(A)成分为含有(a1)由具有酸解离性溶解抑制基之(甲基)丙烯酸酯所衍生之结构单位，且不含有(a0)(a0－1)含二羧酸之无水物结构单位及(a0－2)含酚性羟基之结构单位的正型光阻组成物。 |
