| 主权项 |
1.一种高能粒子束照射晶圆之转盘装置,系包括:一高能粒子束导引装置,其系具有:一粒子束真空导管,其开口端系为一照射鼻装置;一反应腔,其系具有:一第一法兰,位于该反应腔之正面,该第一法兰系用来连接一金属软管,此一金属软管可将该高能粒子束导引管包覆于内;一第二法兰,位于该反应腔之正面相对应于该第一法兰之位置,该第二法兰系可用来载入及载出待照射物体;一传动轴伸出口,位于该反应腔之背面,并装有支撑旋转轴之一气密轴承。以及一容置空间;一转盘式承载装置,系置于该容置空间中,该转盘式承载装置系包括:一转盘本体,其正面系垂直面对该高能粒子束导引装置中之该照射鼻;一传动轴,固定于该转盘本体之背面,其系经由该传动轴伸出口以伸出该反应腔之外;复数个承载座,均匀分布于该转盘本体之正面,其中该承载座系为一凹槽结构;至少一冷却回路,系贯穿于该转盘本体与该传动轴之内部;以及一真空抽气管路,其系分布且贯穿该转盘本体与该传动轴之内部,并由该传动轴之尾端伸出以接连至一真空抽气装置;一往返移动台车,该往返移动台车上方具有一组支撑座以连结并固定该反应腔;一平移驱动装置,其系可驱动该往返移动台车,使其于直线方向运动;以及一旋转驱动装置,其系装设于该往返移动台车上,该转动驱动装置可与该传动轴连动,用以驱动该传动轴,进而转动该转盘本体。2.如申请专利范围第1项所述之高能粒子束照射晶圆之转盘装置,其中该照射鼻之材料系能减少高能粒子扩散效应。3.如申请专利范围第1项所述之高能粒子束照射晶圆之转盘装置,其中该高能粒子束导引装置更包括有一喷气装置,设于该照射鼻装置之外侧,可于粒子束照射时喷出气体以进行冷却。4.如申请专利范围第1项所述之高能粒子束照射晶圆之转盘装置,其中该反应腔更包括有一抽气口,其系连接至一抽气装置,藉由该抽气装置之作动,系可使该反应腔之环境呈现真空状态。5.如申请专利范围第1项所述之高能粒子束照射晶圆之转盘装置,其中该第二法兰于待照射物体载入完成后,系有一气密盖将其密封。6.如申请专利范围第1项所述之高能粒子束照射晶圆之转盘装置,其中该承载座系用来放置并固定一晶圆,且该承载座上更具有一遮罩固定装置,其系可于该晶圆放置妥当后,用来固定一遮蔽罩装置于该晶圆之前方。7.如申请专利范围第1项所述之高能粒子束转盘照射装置,其中该承载座系用来放置一待照射晶圆与一遮蔽罩装置,而该待照射晶圆与该遮蔽罩装置系可经由一晶圆与射束遮蔽罩对位之调整装置将其结合成一体后再置入该承载座中。8.如申请专利范围第1项所述之高能粒子束照射晶圆之转盘装置,其中该承载座底部开有一底部抽气孔,其系与该真空抽气管路相连接。9.如申请专利范围第8项所述之高能粒子束照射晶圆之转盘装置,其中该承载座系具有一底面与环绕之一侧壁面,该底面系形成有复数个底面刻槽,而该侧壁面亦形成有复数个侧面刻槽,且该复数个底面刻槽系分别与该复数个侧面刻槽相导通,其系可导通该容置空间,并经由该底部抽气孔与该真空抽气管路互相导通。10.如申请专利范围第1项所述之高能粒子束照射晶圆之转盘装置,其中通入该冷却回路之流体系可为冷却液体与冷却气体其中之一,亦可分别通入不同之冷却液体与冷却气体于不同之冷却回路中,其系可用来将该转盘式承载装置之热量导出。11.如申请专利范围第1项所述之高能粒子束照射晶圆之转盘装置,其中该转盘式承载装置连接至一旋转驱动装置旋转驱动装置与,该往返移动台车连接至一系分别连接至一旋转伺服马达平移驱动装置移动伺服马达;两组驱动装置皆使用伺服马达为动力。12.如申请专利范围第11项所述之高能粒子束照射晶圆之转盘装置,其中该旋转驱动装置伺服马达与该平移驱动装置移动伺服马达系由一控制单元控制,以使待照射物体之表面得以均匀接受粒子束之照射。图式简单说明:图一A及图一B系为本创作之较佳实施例示意图。图二系为本创作一种高能粒子束照射晶圆之转盘装置之俯视图。图三A及图三B系为本创作一种高能粒子束照射晶圆之转盘装置之转盘式承载装置的示意图。图三C为本创作一种高能粒子束照射晶圆之转盘装置之转盘式承载装置的又一较佳实施例示意图。图四A为本创作中之转盘式承载装置进行旋转运动时,晶圆所接收到高能粒子射束之照射面积示意图。图四B为本创作中之转盘式承载装置进行旋转运动且往返移动时,晶圆所接收到高能粒子射束之照射面积示意图。 |
