| 主权项 |
1.一种供以流体接触复数种物体的装置,该装置包含:一个具有至少一底壁的容器,向下倾斜的从至少一边墙到一流体进入口,被安排以提供一往上指向流动的该流体,以引起该物体向上流动,从进料位置的邻近到该进入口以使脱离位置,在其中,该物体从该流动被脱离;一散布挡板被固定在该容器中,且有一上面表面向下倾斜,并从该脱离位置的邻近位置,延伸出去到返回位置,如此,该脱离物体掉落到所述散布挡板的上面表面上,且向下移动,随即从该脱离位置离开到该返回位置,该返回位置被安排在该倾斜底墙上面部分的上面,以使沉积该脱离物体到该倾斜底墙的上面部分之上,且该倾斜底墙被安排,以引起该沉积物体的床,沿着该底墙向下移动,从上面部分到该进料位置;以及一导管被固定在该容器中,并被安排在该流体进入口上面,以接收该向上流物体,该导管延伸向上,以限制该物体流,从该进料位置的邻近位置到该散布挡板,并被安排以引起该物体流向上穿过一个在散布挡板中的开孔。2.如申请专利范围第1项所记载的装置,其中该底墙具有一圆锥形状,且大体上被该边墙围绕,以及其中该散布挡板的上面部分,被连结到该导管的上面部分。3.如申请专利范围第1项所记载的装置,用于以金属涂布该物体,其中该流体是包含该金属的液体电解液,以及该物体至少部分导电,而且其中该装置进一步包含电极,被放置在接触所述移动床的适当位置,而且相对电极被放置在,相对于所述移动床位置的适当位置,并被安排到接触所述的液体。4.如申请专利范围第3项所记载的装置,其中该电极包含一薄片或导电材料层,至少覆盖所述的底墙部分,并被安排到接触该物体移动床。5.如申请专利范围第4项所记载的装置,其中该导电材料是具有特定结构,以促进物体移动。6.如申请专利范围第3项所记载的装置,其中该容器室,部分浸入在该液体电解液中,且该相对电极是位于外面,并大概的浸入在该容器部份中,该容器边墙或底墙,具有至少一个开孔浸入在该液体电解液中,以允许电流流动于该物体,与该相对电极之间。7.如申请专利范围第6项所记载的装置,其中所述的开孔是以多孔的筛孔、布或薄膜覆盖,以保持所述的物体在容器中。8.如申请专利范围第3项所记载的装置,其中该相对电极是位于该散布挡板下面,并包括机构,以防止该物体被留住在该相对电极的上面表面之上。9.如申请专利范围第8项所记载的装置,进一步包含一使转向构件,被固定于相对电极下面,以便截取物体,以该流体流动运送向上,并使它们转向,从该相对电极远离。10.如申请专利范围第3项所记载的装置,其中该散布挡板及该相对电极,是可分开的悬浮在该容器中,而且是可移动的,以允许进入到该容器内部。11.如申请专利范围第1项所记载的装置,其中该容器包括流体出口机构,以从该容器排出所述的流体;且其中所述的装置,进一步包含机构,以连续地从相同来源,供应流体到每一所述容器的复数进入口,以及机构以返回每一该流体,从该出口机构到该相同来源,从那儿该流体被供应。12.如申请专利范围第11项所记载的装置,其中该连续供应机构,包含机构以可分开地固定该容器,连续地在每一个复数的容器上,其每一个组成相同的一个该流体的来源。13.如申请专利范围第12项所记载的装置,其中该连续供应机构,进一步包含唧筒机构,以运送流体从该容器到所述的容器进入口,在其所述的容器上是被固定的、控制阀机构,以控制该流体流动,从该固定容器到该容器进入口,以及一个架构,以支撑该容器、该唧筒机构与该阀机构做为一可携式单元,以在该复数容器间调动。14.如申请专利范围第13项所记载的装置,进一步包含侦测机构,以在每一该容器中即时侦测该该容器,以及开关机构,以应答到该侦测机构,以当该容器呈现在相对应的一个该容的器中时,自动地操作该唧筒机构。15.如申请专利范围第12项所记载的装置,其中该容器是轻便的结构,包含一个装置,以连结该进入口到一导管,以供应该流体到该容器,其中该固定机构是被安排到可分开地支撑该容器,连续地在每一个该容器上,且其中每一个该容器包含一供应导管、唧筒机构,以抽吸流体,从该容器到该供应导管,以及阀机构,以控制该流体流动,从该供应导管到该容器进入口。16.如申请专利范围第15项所记载的装置,进一步包含侦测机构,以在每一该容器中即时侦测该该容器,以及开关机构,以应答到该侦测机构,以当该容器呈现在相对应的一个该容器中时,自动地操作该唧筒机构。17.如申请专利范围第11项所记载的装置,进一步包含供应导管,连结到该容器进入口、一个分流导管,连结到所述的供应导管,以循环至少一部份的流体在该供应导管中到该相同的来源,以及一个控制阀,以控制流体流动在该分流导管中,如此地控制该流体流动量,到达该容器进入口。18.如申请专利范围第11项所记载的装置,其中该流体是一种液体,以及该容器室敞开到大气,且其中至少一部份该容器是浸入在该流体中,以及其中该出口机构包含至少一个开孔,在浸入的部分该容器中。19.如申请专利范围第1项所记载的装置,进一步包含复数的容器,每一个包含相对应的处理溶液,以被用于处理该物体、唧筒机构,以循环该处理溶液、各式各样的进入口,以各自地连结该唧筒机构的输出端,到每一个所述的容器、各式各样的出口,以返回该连续溶液,从所述的容器出口到该连续容器、可远距离操作的阀,以各自地,与一个该容器在一个时间连结该各式各样进入口与各式各样的出口,以及控制机构,以从遥远的位置那里操作该阀机构。20.如申请专利范围第1项所记载的装置,进一步包含筛孔屏,放置在相对于该容器进入口的适当位置,以预防排出该物体,穿过该容器进入口不在该流体流中,以及一个过滤器,以过滤该向上流流体之该筛孔屏。21.如申请专利范围第1项所记载的装置,进一步包含一颗粒捕集器,提供该容器进入口的向上流的一个迂回流动路径,以预防排出所述的物体,经由该容器进入口不在该流体流中。22.如申请专利范围第1项所记载的装置,进一步包含一使转向构件,被固定于该散布挡板上面,并位在该该使分离位置的邻近中,如此地截取该向上流动的物体,并使它们转向,远离该流体流。23.如申请专利范围第22项所记载的装置,其中该使转向构件,具有一凹曲表面,以截取并使该物体转向。24.如申请专利范围第1项所记载的装置,其中该底墙,以及该散布挡板是各自倾斜的在一个角度,该范围从水平大约20到大约50。25.如申请专利范围第1项所记载的装置,其中该流体在该容器是混合着液体与气体,且其中该散布挡板有低的表面,它是从该导管的中间部分倾斜的向上远离,且朝向该边墙,以预防气体积聚在该散布挡板下面。26.如申请专利范围第1项所记载的装置,其中该流体在该容器中是混合着液体与气体,且其中该室机构,被提供以预防气体积聚在该散布挡板下面,以提供一流体路径给该气体,从下面到该散布挡板上面。27.一种以电解液流体电解处理复数种物体的装置,当被浸入在该流体中,该物体至少是部分导电的,该装置包含:一个具有至少一底壁的容器,向下倾斜的从至少一边墙到一流体进入口,被安排以提供一往上指向流动的该流体,以引起该物体向上流动,从进料位置的邻近到该进入口以使脱离位置,在其中,该物体从该流动被脱离,且从其该被脱离的物体被沉积在该底墙的上面部分之上,该底墙被安排以引起该物体床,沿着该底墙向下移动,从上面部分离开,由此朝向该进料位置;一电极,被放置在接触该移动床的适当位置,而且相对电极被放置在接触该流体的适当位置;唧筒机构,以运送流体从容器到该容器进入口;控制阀机构,以控制该流体流动,从该容器到该容器进入口;以及一个架构,以接合该容器,并支撑在其上该容器、该唧筒机构与该阀机构,以提供一轻便的装置于该复数容器间调动。28.如申请专利范围第27项所记载的装置,进一步包含一散布挡板,被固定在该容器中,并具有一上面的表面向下倾斜并延伸出去,从该脱离位置邻近到返回位置,该该倾斜底墙上面部分的上面,如此,该脱离物体掉落到该该散布挡板上面的表面之上,并向下移动在其上该返回位置,从它们被沉积到该倾斜底墙的上面部分之上,且移动向下,沿着该倾斜底墙到该进料位置。29.如申请专利范围第28项所记载的装置,进一步包含供应导管,固定在该容器中,并被安排在该流体进入口上面,以接受该物体流,该供应导管向上延伸,以限制该该物体流,从该进料位置邻近到至少该散布挡板邻近,并被安排,以引起该物体向上流,穿越通过一在该散布挡板中的开孔。30.如申请专利范围第28项所记载的装置,其中该散布挡板及该相对电极,是可分开的悬浮在该容器中,而且是可移动的,以允许进入到该容器内部。31.如申请专利范围第28项所记载的装置,进一步包含一使转向构件,被固定于该散布挡板上面,并位在该脱离位置的邻近中,以便截取该向上流动物体,并使它们转向,从该流体流动远离。32.如申请专利范围第28项所记载的装置,其中该容器是部分浸入在该液体电解液中,且该相对电极是位于外面,并大概的浸入在该容器部份中,该容器边墙或底墙,具有至少一个开孔浸入在该液体电解液中,以允许电流流动于该物体与该相对电极之间。33.如申请专利范围第32项所记载的装置,其中该开孔是以多孔的筛孔、布或薄膜覆盖,以保持该物体在该容器中。34.如申请专利范围第28项所记载的装置,其中该相对电极是位于该散布挡板下面,并包括机构,以防止该物体被留住在该相对电极上面的表面之上。35.如申请专利范围第34项所记载的装置,进一步包含一使转向构件,被固定于所述的相对电极下面,以便截取物体,以该流体流动运送向上,并它们使转向,从该相对电极远离。36.如申请专利范围第27项所记载的装置,其中该电极包含一薄片或导电材料层,覆盖该底墙坚固的部分,并被安排到接触该物体移动床。37.如申请专利范围第36项所记载的装置,其中该导电材料是具有特定结构的,以促进物体移动。38.如申请专利范围第4或36项所记载的装置,进一步包含一绝缘成分制作的非电导体材料,并被安排与该薄片或层重叠,且其中缺口被提供,介于该绝缘成分与该薄片或层的上面部分之间,以降低电流密度在该所述的绝缘成分的较低边的邻近部份中。39.一种以流体接触复数种物体的装置,所述的装置包含:一个具有至少一底壁的容器,向下倾斜的从至少一边墙到一流体进入口,被安排以提供一往上指向流动的该流体,以引起该物体向上流动,从邻接的进料位置到该进入口以使脱离位置,在其中,该物体从该流动被脱离;一散布挡板被固定在所述的容器中,且具有一上面的表面向下倾斜,并从该脱离位置的邻近位置延伸出去到返回位置,如此,该脱离物体,掉落到该散布挡板上面的表面之上,且向下移动,随即从该脱离位置离开到该返回位置,该返回位置被安排在该倾斜底墙上面部分的上面,以沉积该脱离物体到该倾斜底墙的上面部分之上,且该倾斜底墙被安排,以引起该沉积物体的床,沿着该底墙向下移动,从上面部分到该进料位置;以及一电极,被安排以接触该移动床,以及一相对电极,被安排以接触该流体,该流体是一液体电解液,包含一用于涂布该物体的金属,且该物体是至少部分导电的。40.一种以流体接触复数种物体的装置,该装置包含:一个具有至少一底壁的容器,向下倾斜的从至少一边墙到一流体进入口,被安排以提供一往上指向流动的该流体,以引起该物体向上流动到脱离位置,从邻接的进料位置到该进入口;一使转向构件,被固定在所述脱离位置的邻近中,以从该流体流动截取,并脱离该向上流动物体;以及一散布挡板被固定在该容器中,且具有一上面的表面向下倾斜,并从该脱离位置的邻近位置延伸出去到返回位置,如此,该脱离物体,掉落到该散布挡板上面的表面之上,且向下移动,随即从该脱离位置离开到该返回位置,该返回位置被安排在该倾斜底墙上面部分的上面,以沉积所述的脱离物体到该倾斜底墙的上面部分之上,且该倾斜底墙被安排,以引起该沉积物体的床,沿着该底墙向下移动,从上面部分到该进料位置。图式简单说明:第1图:是依据本发明制作的轻便喷动床电化学反应容器以及固定的电解液槽与靠接系统截面正视概略图;第2图:是如第1图的轻便喷动床电化学反应容器的修改的截面正视概略图,其中底墙及边墙两者通路被以筛孔覆盖及电流输电线被悬吊在该室底部上面;第3图:是依据本发明制作的喷动床电镀装置外面顶部概略图,当作修改以提供自身包含轻便的组件;第4图:是一个沿着第3图线4-4的第3图设备截面正视概略图;第5图:是修改的喷动床电化学反应容器截面正视概略图,具有浅的圆锥底及带有元件移动通道的同心环状元件捕集器;第6图:是提供多种处理溶液到第1、2或5图中所展示的反应器型式之流体系统的图表说明;第7图:是展示在第1图中本发明的详细放大片段断面概略图;第8图:是显示在本发明的喷动床电化学反应器中,用以从氰化物溶液中银电解液收回的电流密度函数及电流效率的图表,使用3mm及6mm球面,与使用平面电极作为对照,并且没有搅动;第9图:是显示从氰化物溶液中银收回速率图表与本发明喷动床的电流密度函数,以使用平面电极并且搅动溶液作为对照;以及第10图:是显示铜浓度与从酸硷値1.9的硫酸铜溶液收回金属的时间函数的图表,本发明使用浅的直径12"的喷动床反应器,与使用较深的7.5"喷动床反应器作为对照。 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