| 主权项 |
1.一种多侦测孔基座,系用以承载一基板,并侦测该基板之完整性,包括:一具有复数个孔洞之承载平板,用以承载该基板;一支撑架,位于该承载平板之一侧,用以支撑该承载平板;一具有复数个分支管道之气体通道,位于该支撑架之一侧,用以输送一气体,其中该复数个分支管道分别与该复数个孔洞连接;以及至少一与该气体通道或该分支管道连接之压力感测元件,用以侦测该气体通道内之压力。2.如申请专利范围第1项所述之多侦测孔基座,其更包含一与该气体通道连接之气体源,用以提供该气体。3.如申请专利范围第1项所述之多侦测孔基座,其更包含一与该气体通道连接之抽气单元,用以抽回该气体。4.如申请专利范围第1项所述之多侦测孔基座,其中该基板之直径介于8英寸至16英寸。5.如申请专利范围第1项所述之多侦测孔基座,其中该复数个孔洞呈阵列状分布于该承载平板。6.如申请专利范围第1项所述之多侦测孔基座,其中该气体为惰性气体。7.如申请专利范围第6项所述之多侦测孔基座,其中该气体为氩气或氮气。8.如申请专利范围第1项所述之多侦测孔基座,其系为一静电吸附极(Electrostatic Chuck)。9.一种承载基座侦测基板完整性之方法,包括以下步骤:提供一具有复数个孔洞之承载平板,用以承载一基板;一支撑架,位于该承载平板之一侧,用以支撑该承载平板;以及一具有复数个分支管道之气体通道,位于该支撑架之一侧,用以输送一气体,其中该复数个分支管道分别与该复数个孔洞连接;以及提供至少一与该气体通道或该分支管道连接之压力侦测元件,以侦测该气体通道内之压力变化,并判断该基板有无破片。10.如申请专利范围第9项所述之方法,其更包含一与该气体通道连接之气体源,用以提供该气体。11.如申请专利范围第9项所述之方法,其更包含提供一与该气体通道连接之抽气单元,用以抽回该气体。12.如申请专利范围第9项所述之方法,其中该基板之直径介于8英寸至16英寸。13.如申请专利范围第9项所述之方法其中该复数个孔洞呈放射状分布于该承载平板。14.如申请专利范围第9项所述之方法,其中该气体为惰性气体。15.如申请专利范围第9项所述之方法,其中该气体为氩气或氮气。16.如申请专利范围第9项所述之方法,其系为一静电吸附极(Electrostatic Chuck)。图式简单说明:图1系习知基板承载基座之立体图。图2a系本发明一较佳实施例多侦测孔基座之立体图。图2b系本发明一较佳实施例多侦测孔基座之剖视图。 |
