发明名称 反射型投影光学系统、曝光设备及装置制造方法
摘要 将物体表面上之缩减尺寸图案投射在一影像表面上之反射型投影光学系统包含八个镜片,该等镜片从物体表面侧至影像表面侧依序包含一第一镜片、一第二镜片、一第三镜片、一第四镜片、一第五镜片、一第六镜片、一第七镜片、及一第八镜片,并使第六镜片与第七镜片之间的中间影像形成在一光径上,其中,一距各镜片处一光轴之主要射线高度方向上的位置移位,且从第一镜片至第四镜片之位移方向与从第五镜片至第八镜片之位移方向相反,其中,第二镜片至第五镜片为凹面镜,一凸面镜,一凹面镜及一凹面镜,且第七镜片至第八镜片为一凸面镜及一凹面镜,且其中,第八个镜片中之第二镜片的位置最接近物体表面侧。
申请公布号 TW200426526 申请公布日期 2004.12.01
申请号 TW092136893 申请日期 2003.12.25
申请人 佳能股份有限公司 发明人 寺泽千明
分类号 G03F7/20;G02B17/00 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 日本