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发明名称
具有碎屑抑制构件之微影装置及制造元件之方法
摘要
本发明包含一种用于映射光罩中光罩图案至一基板上之微影投射装置,此装置包含一辐射线系统,其被建构且配置以供应一辐射线投射光束;一第一物件平台,其被建构以夹住一光罩;一第二物件平台,其被建构以夹住一基板;及一投射系统,其被建构且配置以映射一光罩之照射部分至基板之目标部上;其中它包含一电极,用于施加一电场于辐射线源与电极之间且产生一额外的放电于辐射线源与电极之间。此被施加于本发明装置中的电场去除由辐射线源所产生不要的污染物(碎屑)。
申请公布号
TW200426525
申请公布日期
2004.12.01
申请号
TW092135996
申请日期
2003.12.18
申请人
ASML公司
发明人
里维纳斯 派特 贝克
分类号
G03F7/20;G21K5/00;H01L21/027
主分类号
G03F7/20
代理机构
代理人
陈长文
主权项
地址
荷兰
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