曝光用光罩、其制造方法以及曝光方法

摘要

本发明之目的在于以简单之构成且在可获得充分阶度数之情况下提供以曝光形成3维形状用之曝光用光罩。本发明系在曝光装置S所使用之曝光用光罩M中，连续配置多数包含可阻断由曝光装置S出射之光之遮光图案、与可透过该光之透光图案之对之图案区块，并设置成使该连续之图案区块之间距一定，且遮光图案与透光图案之比率徐徐发生变化。