| 主权项 |
1.一种光磁记录媒体,系在基板上依序积层有软磁 性层、凹轨形成层及光磁记录层者, 而前述基板系由树脂制成且至少在该基板之表面 中与前述软磁性层相接触之部份的表面粗度为4nm 以上。 2.如申请专利范围第1项之光磁记录媒体,其中前述 软磁性层、前述凹轨形成层以及前述光磁记录层, 系分别设置在前述基板之两面。 3.如申请专利范围第1项之光磁记录媒体,其中前述 基板之表面整体系被前述软磁性层被覆。 4.如申请专利范围第1项之光磁记录媒体,其中前述 软磁性层之面积为记录面之面积以上,并且在前述 基板之表面积的85%以下之范围内。 5.一种光磁记录媒体,系在基板上依序积层有软磁 性层、凹轨形成层及光磁记录层者, 而前述基板系由树脂制成且至少在该基板之表面 中与前述软磁性层相接触之部份上形成多数凹轨, 且该部份之表面粗度为2nn以上。 6.如申请专利范围第5项之光磁记录媒体,其中前述 多数凹轨系形成在前述基板之两面,并且前述软磁 性层及前述光磁记录层分别设置在前述基板之两 面。 7.一种光磁记录媒体之制造方法,该光磁记录媒体 系在基板上依序积层有软磁性层、凹轨形成层及 光磁记录层者,该制造方法包含有: 第1程序,系将前述基板以树脂成形,并使其表面粗 度成为4nm以上;及 第2程序,系藉无电解电镀法形成前述软磁性层。 8.如申请专利范围第7项之光磁记录媒体之制造方 法,其中前述第1程序系使用将其表面粗度调整成4 nm以上之压模来进行。 9.一种光磁记录媒体之制造方法,该光磁记录媒体 系在基板上依序积层软磁性层及光磁记录层,且至 少在前述基板之表面中与前述软磁性层相接触之 部份形成多数凹轨者,该制造方法包含有: 第1程序,系将前述基板以树脂成形,并使其表面粗 度成为2nm以上;及 第2程序,系藉无电解电镀法形成前述软磁性层。 10.如申请专利范围第9项之光磁记录媒体之制造方 法,其中前述第1程序系使用将其表面粗度调整成2 nm以上之压模来进行。 图式简单说明: 第1图系显示本发明有关之光磁记录媒体的一侧之 截面图。 第2A图、第2B图,系说明在第1图所示之光磁记录媒 体的制造方法之程序的截面图。 第3A图、第3B图,系说明在第1图所示之光磁记录媒 体的制造方法之程序的截面图。 第4图系显示本发明有关之光磁记录媒体的他例之 截面图。 |
