发明名称 |
改进的图形发生器反射镜结构 |
摘要 |
本发明涉及到一种用来在对辐射敏感的工件上产生诸如光掩模、显示屏或微光学器件之类的图形的装置。此装置包含辐射源和具有多个调制元件/象素的空间调制器。它还包含将驱动信号馈送到调制器的电子数据处理和发送系统、用来移动所述工件的精密机械系统、以及对工件的运动、到调制器的信号馈送和辐射的强度进行协调以便将分图形顺序产生的分图象缝合成所述图形的电子控制系统。根据本发明,驱动信号能够将调制元件设定到多于2的多个状态。 |
申请公布号 |
CN1550902A |
申请公布日期 |
2004.12.01 |
申请号 |
CN200410035361.6 |
申请日期 |
1999.03.02 |
申请人 |
微激光系统公司 |
发明人 |
托布约姆·桑德斯特罗姆 |
分类号 |
G03F7/20;G02B26/06;H01L21/027;G03F1/00 |
主分类号 |
G03F7/20 |
代理机构 |
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 |
代理人 |
王永刚 |
主权项 |
1.一种用在光投影系统中的空间强度光调制方法,包括:提供独立可寻址的反射镜元件的规则网格,所述反射镜元件具有旋转动作,其中网格中的反射镜元件被排列成使得第一反射镜元件具有旋转动作基本上不同的相邻的第二反射镜元件;驱动反射镜元件以形成图形;以及将来自反射镜元件的辐射投射到像平面上以再现该图形。 |
地址 |
瑞典泰比 |