滑动轴承的真空镀膜装置

摘要

不同形状基体真空镀膜用的现有装置，在连续作业或分批作业的设备中，都是按下述方式配置的，即按一种镀膜工艺涂敷几层涂层。滑动轴承要涂敷几层涂层，所用的镀膜物质和与此有关的条件要求采用多项镀膜技术。这特别涉及一些输送参数。现有的设备不能满足这些要求。按本发明的这样一种装置包含几个连成一条线的处理室。采用形锁合和力锁合的配合方式一起保持在温度调节的支承体上的滑动轴承被移动通过上述的室，包括预处理室、溅射室、蒸发室，为此采用一种与此工艺相适配的输送系统。支承体用的温度调节装置连接在镀膜行程的上游。相应的输入和输出通道使得从大气到大气的输送成为可能。

主权项

1.滑动轴承的真空镀膜装置，使滑动轴承具有至少一层中间膜层和至少一层滑动膜层，本装置包含：一系列真空室，这些真空室依次排列并通过真空阀或压力级加以分开，其中，至少一个真空室作为闸门室用来将未镀膜的滑动轴承送入真空和/或用来将已镀膜的滑动轴承送出真空，至少一个第二真空室用来通过一种等离子体方法预处理未镀膜的滑动轴承，以及至少另一个真空室用来涂敷中间膜层和滑动膜层；真空泵，与各真空室相连；供电装置和控制装置，用于实施镀膜工艺；以及，用来将若干个滑动轴承送到一条通过本装置延伸的输送道上，其特征在于：-滑动轴承(3)被形锁合地保持在支承体(2)上，-上述支承体(2)是可以温度调节的，-滑动轴承(3)能够用一个可调节的力压紧在支承体上，-在输送装置中相继地至少装有输入端的闸门室(5)，一个预处理室(7)，一个第一镀膜室(9)，一个第二镀膜室(11)和一个输出端的闸门室(19)，-控制装置设计成，使得支承体(2)可以以一个与在每个真空室中进行的部分工艺过程相适配的输送速度移动，-在预处理室(7)中安置了一个腐蚀装置(8)，用来对滑动轴承(3)进行稳定态的、磁场支持的等离子体腐蚀，-在第一镀膜室(9)中安置了一个磁控管溅射源(10)，在此溅射源中至少一个靶被溅射，在各滑动轴承(3)之间有一个与滑动轴承(3)的几何形状相适配的间距，-在第二镀膜室(11)中安置了一个配有一蒸发器埚(16)的电子束蒸发器，与滑动轴承(3)保持一个与滑动轴承(3)的几何形状相适配的间距，-在滑动轴承(3)于其中通过电子束蒸发而被镀膜的区域前后，设置了缓冲区(12，18)。