淀积膜形成方法以及装置

摘要

本发明提供使圆柱形支撑体平滑地旋转，滑动特性良好，抗腐蚀以及耐久性高，电子照相特性的不均匀少的淀积膜的形成方法以及装置，本方法在能够减压的反应容器内设置圆柱形支撑体，通过旋转单元使上述圆柱形支撑体旋转，使用淀积膜形成用原料气体导入单元，在上述反应容器内导入原料气体，把上述圆柱形支撑体加热，施加用于激励上述原料气体的放电能量，把上述反应容器内排气的同时通过等离子体CVD法形成淀积膜，使用具备了非旋转部分的滑动面的至少一部分由固体润滑材料构成的滑动构件的上述旋转单元。

主权项

1.一种淀积膜形成方法，该方法在能够减压的反应容器内设置圆柱形支撑体，使上述圆柱形支撑体旋转，使用淀积膜形成用原料气体导入单元，在上述反应容器内导入原料气体，把上述圆柱形支撑体加热，施加用于激励上述原料气体的放电能量，对上述反应容器内进行排气的同时通过等离子体CVD法形成淀积膜，其特征在于：使用具备非旋转部分的旋转单元进行上述圆柱形支撑体的旋转，上述非旋转部分包括至少具有滑动面部分的滑动构件，而且上述滑动面部分的至少一部分由固体润滑材料形成。