发明名称 | 垂直磁记录介质、磁记录装置 | ||
摘要 | 提供一种被改进以适合用于高密度磁记录的垂直磁记录介质和一种使用这种介质的磁记录装置。使双层垂直记录介质的磁性背层膜由多个层构成,并且用于保持垂直磁化的保持层(17)以及用于提高记录头的记录效率的层(13)和(15)在功能上彼此分开。而且,不包括保持层的软磁膜的磁化取向被限定为在盘的周边方向上,从而降低发生噪声的频率。 | ||
申请公布号 | CN1178206C | 申请公布日期 | 2004.12.01 |
申请号 | CN00137029.4 | 申请日期 | 2000.11.24 |
申请人 | 株式会社日立制作所 | 发明人 | 二本正昭;吉田和悦;本多幸雄;平山义幸;菊川敦 |
分类号 | G11B5/667 | 主分类号 | G11B5/667 |
代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 陈季壮 |
主权项 | 1.一种垂直磁记录介质,其具有非磁性基片、垂直磁化膜、以及在所述非磁性基片与垂直磁化膜之间形成的磁性背层膜,其中磁性背层膜包括三层或多层通过非磁性层彼此分开的软磁膜,在三层或多层通过非磁性层彼此分开的软磁膜中,最靠近垂直磁化膜的软磁膜的厚度大于0纳米和不大于100纳米,其中最靠近垂直磁化膜的软磁膜的饱和磁化强度大于其它软磁膜的饱和磁化强度,其中不为最靠近垂直磁化膜的软磁膜的软磁膜在记录时具有彼此反平行的磁化取向。 | ||
地址 | 日本东京 |