| 发明名称 | 投影曝光装置 | ||
| 摘要 | 在感光材料(150)和像一侧远心的第二成像光学系统(52)之间，配置具有调节通过第二成像光学系统(52)在感光材料(151)上成像的像的焦点的楔形棱镜对(540)的空气间隔调节部(54)。用DMD80将从光源部件(60)发出，通过DMD照射光学系统(70)传播的光进行空间光调制，形成光的2维图案，使空间光调制的2维图案通过光学系统(50)和所述空气间隔调节部(54)，在感光材料(150)上成像，将该2维图案投影到感光材料(150)上，进行曝光。在投影曝光装置中，更容易并且以更短时间进行将空间调制的2维图案投影到感光材料上时的对焦。 | ||
| 申请公布号 | CN1550875A | 申请公布日期 | 2004.12.01 |
| 申请号 | CN200410043359.3 | 申请日期 | 2004.05.08 |
| 申请人 | 富士胶片株式会社 | 发明人 | 石川弘美;大场昌宏;高田伦久;兴梠裕 |
| 分类号 | G03B27/32;G02F1/00 | 主分类号 | G03B27/32 |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 李香兰 |
| 主权项 | 1、一种投影曝光装置，包括：对从光源发出的光进行空间光调制并且形成2维图案的空间光调制部件；和使已进行空间光调制的2维图案在感光材料上成像的像一侧远心的成像光学系统；并将所述2维图案投影到所述感光材料上，其特征在于，备有：空气间隔调节部件，其配置在所述感光材料和所述成像光学系统之间，变更该感光材料和成像光学系统之间的空气间隔，调节使所述2维图案成像时的焦点。 | ||
| 地址 | 日本神奈川县 | ||