发明名称 |
COMPUESTO FENOXIFOSFACENO RETICULADOS, PROCEDIMIENTO PARA SU PREPARACION, COMPOSICIONES DE RESINA IGNIFUGAS Y RESINAS MOLDEADAS IGNIFUGAS. |
摘要 |
Compuesto fenoxifosfaceno reticulado, caracterizado porque: al menos un compuesto fosfaceno seleccionado de entre el grupo formado por un compuesto fosfaceno cíclico representado por la fórmula (1) **(fórmula)** en la cual m es un número entero entre 3 a 25 y Ph es un grupo fenilo, y un compuesto fosfaceno de cadena lineal o ramificada representado por la fórmula (2) **(fórmula)** en la cual X1 representa un grupo -N = P(OPh)3 o un grupo -N=P(O)OPh, Y representa un grupo -P(OPh)4 o un grupo -P(O)(OPh)2, y n es un número entero entre 3 a 10.000 y Ph es tal como se ha definido anteriormente, se reticula con al menos un grupo reticulante seleccionado de entre el grupo formado por un grupo o-fenileno, un grupo m-fenileno, un grupo p-fenileno y un grupo bisfenileno representado por la fórmula (3) **(fórmula)** en la cual A es -C(CH3)2-, -SO2-, -S- u -O- y z es 0ó1; (a) cada de los grupos reticulantes se interpone entre los dos átomos de oxígeno que quedan después de la eliminación de los gruposfenilo del compuesto fosfaceno; (b) la cantidad de grupos fenilo en el compuesto reticulado es del 50% al 99, 9% en base a la cantidad total de los grupos fenilo existentes en dicho compuesto fosfaceno representado por la fórmula (1) o dicho compuesto fosfaceno representado por la fórmula (2); y (c) el compuesto fenoxifosfaceno reticulado no tiene grupos hidroxilo libres en la molécula.
|
申请公布号 |
ES2220088(T3) |
申请公布日期 |
2004.12.01 |
申请号 |
ES19990935083T |
申请日期 |
1999.08.05 |
申请人 |
OTSUKA CHEMICAL CO., LTD. |
发明人 |
NAKACHO, Y.;YABUHARA, T.;TADA, YUJI, TOKUSHIMA;NISHIOKA, Y. |
分类号 |
C07F9/6581;C07F9/6593;C08G79/02;C08K5/5399;C09K21/14;(IPC1-7):C07F9/08;C07F9/658;C08J5/00;C08K5/539;C08L85/02;C08L101/00;C09K21/12;C07F9/06;C08K5/00 |
主分类号 |
C07F9/6581 |
代理机构 |
|
代理人 |
|
主权项 |
|
地址 |
|