发明名称 制造液晶显示装置之方法
摘要 一种液晶显示装置之制造方法,系利用大气压力。一 LCD封合样式,系形成在一玻璃基质上面。沿该玻璃基质之周缘,形成有一气密封合样式。该玻璃基质系与另一玻璃基质对齐。此两玻璃基质系在真空中放置在一起。此真空将会泄漏至大气压力(标准大气压力)。因而可形成一均匀之晶格间隙。
申请公布号 TW507091 申请公布日期 2002.10.21
申请号 TW087117955 申请日期 1998.10.29
申请人 松下电器产业股份有限公司 发明人 田中一成;田中好纪
分类号 G02F1/13 主分类号 G02F1/13
代理机构 代理人 恽轶群 台北巿南京东路三段二四八号七楼;陈文郎 台北巿南京东路三段二四八号七楼
主权项 1.一种制造液晶显示装置(LCD装置)之方法,该液晶显示装置含有第一及第二玻璃基板,该方法包含之步骤有:在第一玻璃基板上形成一LCD面板封合样式;沿着该第一玻璃基板及第二玻璃基板中之一者之周缘,形成一具有连续线之气密封合样式;以及形成气密封合样式后,在真空中使该第一玻璃基板与第二玻璃基板对齐放置在一起。2.如申请专利范围第1项之制造液晶显示装置(LCD装置)之方法,进一步包含之步骤有:藉着使上述之真空泄漏至大气压力,以及使该等第一和第二玻璃基板压紧在一起,而形成上述LCD装置之均匀晶格间隙。3.如申请专利范围第2项之制造液晶显示装置(LCD装置)之方法,其尚包含之步骤有:切割该等气密封合样式和LCD面板封合样式。4.如申请专利范围第3项之制造液晶显示装置(LCD装置)之方法,其中真空室之真空度在控制上,系依据用以形成LCD封合样式之封合材料的量。5.如申请专利范围第3项之制造液晶显示装置(LCD装置)之方法,其中该气密封合样式包括第一宽部分及至少一个比第一宽度部分窄的第二宽度部分。6.如申请专利范围第3项之制造液晶显示装置(LCD装置)之方法,其气密封合样式之线,系在彼等晶格间隙变得较所希望尺寸为窄之后方断裂。7.如申请专利范围第2项之制造液晶显示装置(LCD装置)之方法,其中之真空的真空室度在控制上,系依据用以形成LCD封合样式之封合材料的量。8.如申请专利范围第7项之制造液晶显示装置(LCD装置)之方法,其中第一宽度的部分及至少一个气密封合样式的第二宽度部分保系沿其玻璃基板之周缘所形成,使第二宽度部分具有较第一部分为窄之宽度。9.如申请专利范围第8项之制造液晶显示装置(LCD装置)之方法,其中该气密封合样式含有多数窄的第二宽度部分,该窄的第二宽度部分在布置上,大致在系与第一及第二玻璃基材的表面之中心对称。10.如申请专利范围第9项之制造液晶显示装置(LCD装置)之方法,其气密封合样式之线,系在彼等晶格间隙变得较所希望尺寸为窄之后方断裂。11.如申请专利范围第10项之制造液晶显示装置(LCD装置)之方法,其中之气密封合样式的黏滞系数,为40至200Pa.s,以及气密封合样式之较窄宽度系大于1mm。12.如申请专利范围第8项之制造液晶显示装置(LCD装置)之方法,其气密封合样式之线,系在彼等晶格间隙变得较所希望尺寸为窄之后方断裂。13.如申请专利范围第12项之制造液晶显示装置(LCD装置)之方法,其中之气密封合样式的黏滞系数,为40至200Pa.s,以及气密封合样式之较窄宽度系大于1mm。14.如申请专利范围第7项之制造液晶显示装置(LCD装置)之方法,其气密封合样式之线,系在彼等晶格间隙变得较所希望尺寸为窄之后方断裂。15.如申请专利范围第14项之制造液晶显示装置(LCD装置)之方法,其中之气密封合样式的黏滞系数,为40至200Pa.s,以及气密封合样式之较窄宽度系大于1mm。16.如申请专利范围第2项之制造液晶显示装置(LCD装置)之方法,其气密封合样式之线,系在彼等晶格间隙变得较所希望尺寸为窄之后方断裂。17.如申请专利范围第16项之制造液晶显示装置(LCD装置)之方法,其中之气密封合样式的黏滞系数,为40至200Pa.s,以及其气密封合样式之较窄宽度系大于1mm。18.如申请专利范围第2项之制造液晶显示装置(LCD装置)之方法,其中该气密封合样式包括第一宽度部分及至少一个比第一宽度部分窄的第二宽度部分。19.如申请专利范围第1项之制造液晶显示装置(LCD装置)之方法,其中该气密封合样式包括第一宽度部分及至少一个比第一宽度部分窄的第二宽度部分。20.如申请专利范围第19项之制造液晶显示装置(LCD装置)之方法,其中该气密封合样式含有多数窄的第二宽度部分,该窄的第二宽度部分在布置上,大致在系与第一及第二玻璃基材的表面之中心对称。21.如申请专利范围第20项之制造液晶显示装置(LCD装置)之方法,其气密封合样式之线,系在彼等晶格间隙变得较所希望尺寸为窄之后方断裂。22.如申请专利范围第21项之制造液晶显示装置(LCD装置)之方法,其中之气密封合样式的黏滞系数,为40至200Pa.s,以及其气密封合样式之较窄宽度系大于1mm。23.如申请专利范围第19项之制造液晶显示装置(LCD装置)之方法,其气密封合样式之线,系在彼等晶格间隙变得较所希望尺寸为窄之后方断裂。24.如申请专利范围第23项之制造液晶显示装置(LCD装置)之方法,其中之气密封合样式的黏滞系数,为40至200Pa.s,以及其气密封合样式之较窄宽度系大于1mm。图式简单说明:第1图系一可显示上面形成有依本发明之第一和第二例示实施例所制之气密封合样式和LCD面板样式的玻璃基质的透视图;第2图系一可显示依本发明之第二例示实施例所制、已组合成之玻璃基质的放大片断平面图;第3图系一可显示依本发明之第二例示实施例所制、沿第2图中之切割平面线3-3所得、恰在一真空室泄漏至大气压力之后,上述已组合成之玻璃基质,沿其厚度方向之横截面的放大视图;第4图系一可显示依本发明之第二例示实施例所制、沿第2图中之切割平面线所得、当其气密封合样式所封合之空间业已泄漏至大气压力时,其已组合成之玻璃基质沿厚度方向之横截面放大视图;而第5图则系一可显示依本发明之第二例示实施例所制、以其气密封合之窄宽度部分的宽度做为参数、沿第2图中之切割平面线所得、恰在其气密封合破裂之后,彼等气密封合剂之黏滞系数与晶格间隙间的关系曲线图。
地址 日本