| 发明名称 | 抛光盘、抛光机及制造半导体器件的方法 | ||
| 摘要 | 一种用于抛光机的抛光盘，在上述抛光机中，抛光工件在抛光盘与抛光工件之间置入抛光剂的状态下通过使上述抛光盘与抛光工件之间产生相对运动而受到抛光，上述抛光盘的特征在于，在该抛光盘的表面上周期性地或非周期性地形成两种或多种不同类型的凹凸形结构。还提出了使用本发明抛光盘的抛光机和使用这种抛光机制造半导体器件的方法。 | ||
| 申请公布号 | CN1551303A | 申请公布日期 | 2004.12.01 |
| 申请号 | CN200310117928.X | 申请日期 | 2000.03.14 |
| 申请人 | 株式会社尼康 | 发明人 | 石川彰;千贺达也;丸口士郎;新井孝史;中平法生;松川英二;宫地章 |
| 分类号 | H01L21/304;B24B37/04 | 主分类号 | H01L21/304 |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 郑修哲 |
| 主权项 | 1.一种用于抛光机的抛光盘，在上述抛光机中，抛光工件在抛光盘与抛光工件之间置入抛光剂的状态下通过使上述抛光盘与抛光工件之间产生相对运动而受到抛光，上述抛光盘的特征在于，在该抛光盘的表面上周期性地或非周期性地形成两种或多种不同类型的凹凸形结构。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||