| 发明名称 | 用于直接写入光刻的产生可变间距嵌套线或接触孔的方法 | ||
| 摘要 | 本文提供了一种用于显影光刻掩模布局的方法和系统。该光刻掩模布局适用于在无掩模光刻系统中配置微镜面阵列。该方法包括生成一代表与期望图象有关的图象特征的理想掩模布局。接着，根据理想掩模布局的平均强度产生等效掩模。 | ||
| 申请公布号 | CN1550906A | 申请公布日期 | 2004.12.01 |
| 申请号 | CN200410043262.2 | 申请日期 | 2004.05.14 |
| 申请人 | ASML控股股份有限公司 | 发明人 | 纳比拉·巴巴－阿里 |
| 分类号 | G03F7/20;G06F17/00 | 主分类号 | G03F7/20 |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 王永刚 |
| 主权项 | 1.一种用于显影光刻掩模布局的方法，该光刻掩模适用于在无掩模光刻系统中配置微镜面阵列，该方法包括：产生理想的掩模布局，理想的掩模布局代表与所需的图象有关的图象特性；以及根据理想的掩模布局的平均强度，产生等效的基于镜面的掩模布局。 | ||
| 地址 | 荷兰费尔德霍芬 | ||