光罩图案定义方法及其应用

摘要

一种光罩图案定义方法及其应用，系在交替式相位移光罩的制造过程中，在原已设置之电路图案的前后及左右方设置相辅助图案，并使相辅助图案和原电路图案呈规则排列。接着，进行相配置步骤，使原电路图案与相辅助图案间，任两相邻图案之间具有180度的相位差。随后，在原电路图案的对角处，再设置另些相辅助图案。其中，后来设置的相辅助图案之相位，系与其相邻两侧的相辅助图案相同。