| 发明名称 |
System und Verfahren zur Ausführung eines reaktiven Ionenätzprozesses an einer Metallschicht |
| 摘要 |
Ein Verfahren und ein System zur Ausführung eines Prozesses zum reaktiven Ionenätzen (RIE-Prozesses) eines Metalls werden offenbart. Der RIE-Prozess für das Metall umfasst wenigstens drei Schritte: einen RIE-Schritt für das Metall, einen Abtragungsschritt und einen Nassreinigungsschritt. Der RIE-Schritt für das Metall und der Abtragungsschritt werden in einer Hauptreaktionskammer durchgeführt.
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| 申请公布号 |
DE102004017526(A1) |
申请公布日期 |
2004.11.25 |
| 申请号 |
DE200410017526 |
申请日期 |
2004.04.08 |
| 申请人 |
INFINEON TECHNOLOGIES AG |
发明人 |
LIPINSKI, MATTHIAS;STOJAKOVIC, GEORGE |
| 分类号 |
H01L21/02;H01L21/311;H01L21/3213;(IPC1-7):H01L21/321 |
主分类号 |
H01L21/02 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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