发明名称 用于曝光基板之曝光装置以及曝光面板之方法
摘要 一种用于曝光基板之曝光装置。曝光装置包括一承载机构、一第一能量装置及一第二能量装置。承载机构包括复数个承载元件,用以承载基板。第一能量装置与第二能量装置分别设置于承载机构的上方及下方。
申请公布号 TW200630756 申请公布日期 2006.09.01
申请号 TW094105044 申请日期 2005.02.21
申请人 友达光电股份有限公司 发明人 廖英智
分类号 G03F7/20 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人 洪澄文;颜锦顺
主权项
地址 新竹市新竹科学工业园区力行二路1号