发明名称 用于清洗抗蚀剂脱膜剂的化学清洗组成物
摘要 本发明涉及一种用于清洗抗蚀剂脱膜剂的化学清洗组成物,具体而言,本发明包含,a)0.05重量份到10重量份的有机胺类化合物;b)0.05重量份到30重量份的有机溶剂;c)0.005重量份到5重量份的三唑类防腐蚀剂;d)0.005重量份到5重量份的选自羟基苯酚类、没食子酸烷酯及还原剂类中的防腐蚀剂;以及e)余量水。本发明的用于清洗抗蚀剂脱膜剂的化学清洗组成物,具有优异的清洗能力且能够防止金属膜层的腐蚀,并且可替代以往清洗工艺中所使用的甲醇、乙醇、异丙醇等引火性物质,亦即醇类化合物,能够有效地清洗残留在基板上的脱膜剂等有机异物及灰尘等无机异物。
申请公布号 TW200736857 申请公布日期 2007.10.01
申请号 TW096110228 申请日期 2007.03.23
申请人 东进世美肯股份有限公司 发明人 金圣培;朴熙珍;尹锡壹;金柄郁;辛成健
分类号 G03F7/42(2006.01) 主分类号 G03F7/42(2006.01)
代理机构 代理人 刘緖伦
主权项
地址 韩国