发明名称 自对准双位非易失性存储单元及其制造方法
摘要 本发明提供了一种自对准双位非易失性存储单元及其制造方法,该自对准双位非易失性存储单元的结构包括:每一存储单元具有两分离的电荷储存区,分别可储存一位的数据。此两分离的电荷储存区为物理上地分离。控制栅极和保护层位于两分离的电荷储存区之间和上方。而且,此两分离的电荷储存区由自动对准制程制造而成。
申请公布号 CN1549347A 申请公布日期 2004.11.24
申请号 CN03158502.7 申请日期 2003.09.17
申请人 旺宏电子股份有限公司 发明人 薛正诚
分类号 H01L27/105;H01L21/8234;H01L21/8239 主分类号 H01L27/105
代理机构 隆天国际知识产权代理有限公司 代理人 潘培坤;楼仙英
主权项 1.一种自对准双位非易失性存储单元,其特征在于包括:一通道;两位线,分别位于该通道的两侧成列状的排列;两隔离线,在对应于该位线的上方;一控制栅极,在该隔离线和该通道上方成行状配置;一保护层位于该控制栅极下方;两分离的电荷储存区由氮化物所组成,分别位于该通道的两侧,其中两分离的电荷储存区间为该控制栅极和该保护层;一底层氧化层,位于该位线和该通道上方,且在该电荷储存区、该隔离线和该保护层下方;以及一顶层氧化层,位于该电荷储存区上方,且在该隔离线和该保护层下方,其中该电荷储存区位于该顶层氧化层和该底层氧化层之间。
地址 台湾省新竹市