发明名称 |
自对准双位非易失性存储单元及其制造方法 |
摘要 |
本发明提供了一种自对准双位非易失性存储单元及其制造方法,该自对准双位非易失性存储单元的结构包括:每一存储单元具有两分离的电荷储存区,分别可储存一位的数据。此两分离的电荷储存区为物理上地分离。控制栅极和保护层位于两分离的电荷储存区之间和上方。而且,此两分离的电荷储存区由自动对准制程制造而成。 |
申请公布号 |
CN1549347A |
申请公布日期 |
2004.11.24 |
申请号 |
CN03158502.7 |
申请日期 |
2003.09.17 |
申请人 |
旺宏电子股份有限公司 |
发明人 |
薛正诚 |
分类号 |
H01L27/105;H01L21/8234;H01L21/8239 |
主分类号 |
H01L27/105 |
代理机构 |
隆天国际知识产权代理有限公司 |
代理人 |
潘培坤;楼仙英 |
主权项 |
1.一种自对准双位非易失性存储单元,其特征在于包括:一通道;两位线,分别位于该通道的两侧成列状的排列;两隔离线,在对应于该位线的上方;一控制栅极,在该隔离线和该通道上方成行状配置;一保护层位于该控制栅极下方;两分离的电荷储存区由氮化物所组成,分别位于该通道的两侧,其中两分离的电荷储存区间为该控制栅极和该保护层;一底层氧化层,位于该位线和该通道上方,且在该电荷储存区、该隔离线和该保护层下方;以及一顶层氧化层,位于该电荷储存区上方,且在该隔离线和该保护层下方,其中该电荷储存区位于该顶层氧化层和该底层氧化层之间。 |
地址 |
台湾省新竹市 |