| 主权项 |
1.一种场发射显示器,其包括有:一阴极电子发射单元,可出射一一次电子;一电子放大单元,设置于该阴极电子发射单元之上方,用以对该一次电子产生电子放大的效果,并可支撑该场发射显示器,其包括有:至少两绝缘层与一电极层,该电极层系为一具有复数个通孔之金属薄板且夹置于两该绝缘层的中间,且其表面具有一电子放大材料,而两该绝缘层系用以作为电性绝缘;一面板单元,其包括有:一上电极层,系由一透明导电材料制成,且设置于该电子放大单元之上方,而其下表面具有一发光层;及一透光面板,设置于该上电极层之上方;及一电源供应及影像显示电路单元,用以提供该场发射显示器运作所需之电源,及其内部之控制电路;藉由该电源供应及影像显示电路单元施加电压于该阴极电子发射单元、该电极层及该上电极层,使该一次电子由该阴极电子发射单元往该面板单元的方向移动,该一次电子会撞击到该电极层表面之该电子放大材料而产生一二次电子,该二次电子穿过该通孔而撞击至该发光层并产生一萤光,该萤光会穿透该透光面板而出射出来。2.如申请专利范围第1项所述之场发射显示器,其中该阴极电子发射单元更包括有:一基板;一第一电极,设置于该基板之上;复数个阴极电子放射部,设置于该第一电极上之适当位置,用以出射该一次电子;一第一绝缘层,系由复数个绝缘体所组成,且各该绝缘体与各该阴极电子放射部相间隔,用以提供电性绝缘;及复数个第二电极,设置于相邻之各该绝缘体的上方;藉由控制施加于该第一电极与各该第二电极间之电压变化,可控制各该阴极电子放射部于指定的时间出射该一次电子。3.如申请专利范围第2项所述之场发射显示器,其中该阴极电子放射部系由阴极电子放射材料所制成。4.如申请专利范围第1项所述之场发射显示器,其中该阴极电子发射单元系为点发射源。5.如申请专利范围第1项所述之场发射显示器,其中该阴极电子发射单元系为锲形发射源。6.如申请专利范围第1项所述之场发射显示器,其中该阴极电子发射单元系为薄膜非晶形钻石发射源。7.如申请专利范围第1项所述之场发射显示器,其中该阴极电子发射单元系为薄膜边缘发射源。8.如申请专利范围第1项所述之场发射显示器,其中该阴极电子发射单元系为表面电子放射源。9.如申请专利范围第1项所述之场发射显示器,其中该阴极电子发射单元系为边缘电子放射源。10.如申请专利范围第1项所述之场发射显示器,其中该阴极电子发射单元系为奈米碳管电子放射源。11.如申请专利范围第1项所述之场发射显示器,其中两该绝缘层系由复数个绝缘支柱所组成。12.如申请专利范围第1项所述之场发射显示器,其中两该绝缘层系由复数个连续管壁所组成。13.如申请专利范围第1项所述之场发射显示器,其中各该通孔之壁面系选自由凹斜面、平斜面、垂直面及凸斜面所成组合之一。14.如申请专利范围第1项所述之场发射显示器,其中各该通孔之剖面一边系为凹斜面,而与其相对应的另一边系为平斜面。15.如申请专利范围第1项所述之场发射显示器,其中各该通孔之剖面一边系为凹斜面,而与其相对应的另一边系为垂直面。16.如申请专利范围第1项所述之场发射显示器,其中各该通孔之剖面一边系为凹斜面,而与其相对应的另一边系为凸斜面。17.如申请专利范围第1项所述之场发射显示器,其中各该通孔之剖面一边系为平斜面,而与其相对应的另一边系为垂直面。18.如申请专利范围第1项所述之场发射显示器,其中各该通孔之剖面一边系为平斜面,而与其相对应的另一边系为凸斜面。19.如申请专利范围第1项所述之场发射显示器,其中各该通孔之剖面一边系为垂直面,而与其相对应的另一边系为凸斜面。20.如申请专利范围第1项所述之场发射显示器,其中该电子放大材料系选自由银镁合金、铜铍合金、铜钡合金、金钡合金、金钙合金及钨钡金合金所成组合之一。21.如申请专利范围第1项所述之场发射显示器,其中该电子放大材料系选自由铍氧化物、镁氧化物、钙氧化物、锶氧化物及钡氧化物所成组合之一。22.如申请专利范围第1项所述之场发射显示器,其中该上电极层之材料系选自由铟锡氧化物及透明导电氧化物所成组合之一。23.如申请专利范围第1项所述之场发射显示器,其中该发光层系由萤光材料所制成。24.如申请专利范围第1项所述之场发射显示器,其中该透光面板系由玻璃所制成。25.如申请专利范围第1项所述之场发射显示器,其中该透光面板系由透明塑胶所制成。26.如申请专利范围第1项所述之场发射显示器,其中该电子放大单元包括有复数层绝缘层,各该绝缘层中间夹置有该电极层,而各该电极层之该通孔的尺寸是由该阴极电子发射单元往该面板单元的方向逐渐变大,且最上层与最下层之该电极层的该通孔系不重叠。图式简单说明:第1图为习知之场发射显示器装置的结构示意图;第2图为习知之区段式冷阴极显示器面板的结构示意图;第3图为本创作之第一实施例的结构侧视图;第4图为平斜面型式的通孔剖面图;第5图为垂直面型式的通孔剖面图;第6图为结合垂直面型式与平斜面型式的通孔剖面图;及第7图为本创作之第二实施例的结构侧视图。 |
