| 主权项 |
1.一种偏光片制造方法,该方法至少包含: 形成一偏光性材料于一点笔尖端上; 将该点笔与一偏光基体表面接触,以将该偏光性材 料转移至该偏光基体表面上;以及 硬化该偏光性材料。 2.如申请专利范围第1项所述之偏光片制造方法,其 中硬化该偏光性材料系使用紫外光成膜方式。 3.如申请专利范围第1项所述之偏光片制造方法,其 中硬化该偏光性材料系使用加热成膜方式。 4.如申请专利范围第1项所述之偏光片制造方法,其 中该偏光性材料为一具二色性偏光性材料。 5.如申请专利范围第1项所述之偏光片制造方法,其 中该偏光性材料为一具双折射特性之材料。 6.如申请专利范围第1项所述之偏光片制造方法,其 中该点笔为原子力显微镜之针尖。 7.如申请专利范围第1项所述之偏光片制造方法,其 中将该偏光性材料转移至该偏光基体表面上系使 用毛细作用完成。 8.如申请专利范围第1项所述之偏光片制造方法,其 中该偏光基体材料为透明的高分子材料或玻璃。 9.一种偏光片制造方法,该方法至少包含: 形成一偏光性材料于一点笔尖端上; 将该点笔与一偏光基体表面接触,以将该偏光性材 料转移至该偏光基体表面上; 硬化该偏光基体表面上之该偏光性材料; 形成一表面保护层于该偏光基体表面上;以及 执行一表面保护层之硬化程序。 10.如申请专利范围第9项所述之偏光片制造方法, 其中硬化该偏光性材料系使用紫外光成膜方式。 11.如申请专利范围第9项所述之偏光片制造方法, 其中硬化该偏光性材料系使用加热成膜方式。 12.如申请专利范围第9项所述之偏光片制造方法, 其中该偏光性材料为一具二色性偏光性材料。 13.如申请专利范围第9项所述之偏光片制造方法, 其中该偏光性材料为一具双折射特性之材料。 14.如申请专利范围第9项所述之偏光片制造方法, 其中该点笔为原子力显微镜之针尖。 15.如申请专利范围第9项所述之偏光片制造方法, 其中将该偏光性材料转移至该偏光基体表面上系 使用毛细作用完成。 16.如申请专利范围第9项所述之偏光片制造方法, 其中该偏光基体材料为透明的高分子材料或玻璃 。 图式简单说明: 第一A图所示为一未加电压之TN型液晶显示器之概 略图。 第一B图中所示为施加一外加电压时其TN型液晶显 示器之概略图。 第二图所示为一偏光板之概略图。 第三图其绘示根据本发明之方法利用原子力显微 镜针尖进行偏光片制作之概略图。 第四图所示为根据本发明利用点笔进行偏光材料 转写至偏光基体之放大图形。 第五图所示为本发明偏光片之概略图。 |
