| 主权项 |
1.一种将用以将胺基环化水解为内醯胺的触媒 再生之方法,该触媒为固态氧化物,其特征为触媒 包含至少一种元素之矿物氧化物,其具有相当于具 有大于500直径之孔之孔体积且在氧化气氛中在 300℃至600℃之温度处理。 2.根据申请专利范围第1项之方法,其特征为氧化气 氛含至少0.2体积%之氧。 3.根据申请专利范围第1或2项之方法,其特征为氧 化气氛为空气/惰气或氧/惰气混合物。 4.根据申请专利范围第3项之方法,其特征为惰气选 自包含氮,稀有气体,二氧化碳与水蒸气。 5.根据申请专利范围第1项之方法,其特征为氧化气 氛中之氧浓度为1%至10%体积比。 6.根据申请专利范围第1项之方法,其特征为处理温 度为370℃至500℃。 7.根据申请专利范围第1项之方法,其特征为触媒为 巨体形式之元素之单纯或混合氧化物。 8.根据申请专利范围第1项之方法,其特征为元素选 自包含矽,钛,锆,钒,铌,钽,钨,钼,铁,稀土族与铝。 9.根据申请专利范围第1项之方法,其特征为矿物氧 化物为氧化铝。 10.根据申请专利范围第1项之方法,其特征为新鲜 触媒具有大于10平方米/克之表面积比及大于或等 于10毫升/100克之总孔体积,相当于具有大于500直 径之孔之孔体积大于或等于10毫升/100克,或大于50 平方米/克之表面积比,大于或等于20毫升/100克之 总孔体积及相当于具有大于70直径之孔之孔体 积大于或等于20毫升/100克,或大于50平方米/克之表 面积比,大于或等于15毫升/100克之总孔体积,及相 当于具有大于200直径之孔之孔体积大于或等于 15毫升/100克。 11.根据申请专利范围第1项之方法,其特征为多孔 性氧化物包含至少一种吸附或沈积于孔表面上之 元素之单纯或混合氧化物,元素选自包含矽,钛,锆, 钒,铌,钽,钨,钼,铁,磷,硼,铁,硷金属,硷土金属与稀 土族。 12.根据申请专利范围第1项之方法,其特征为,在以 氧化气氛处理之前,再生之触媒在200℃至500℃之温 度接受以水蒸气之处理,其尽可能为与选自包含惰 气或在惰气中稀释之空气之载体气体之混合物。 13.一种藉由在触媒之存在下环化水解胺基而制 造己内醯胺之方法,其特征为触媒为依照根据申请 专利范围第1项之方法再生之触媒,或再生触媒与 新鲜触媒之混合物。 |
