发明名称 薄膜形成装置和薄膜形成方法、液晶装置之制造装置和液晶装置之制造方法和液晶装置、及薄膜构造体之制造装置和薄膜构造体之制造方法和薄膜构造体及电子机器及电子机器
摘要 本发明系有关薄膜形成装置和薄膜形成方法、液晶装置之制造装置和液晶装置之制造方法和液晶装置、及薄膜构造体之制造装置和薄膜构造体之制造方法和薄膜构造体,及电子机器,其课题乃提供抑制采用液滴吐出喷头所造成之材料之浪费,而且可使形成之膜整体之厚度均匀,之薄膜形成装置和薄膜形成方法、液晶装置之制造装置和液晶装置之制造方法和液晶装置、及薄膜构造体之制造装置和薄膜构造体之制造方法和薄膜构造体。其解决手段为在于溶剂中,将膜材料被溶解或分散所成之涂布液L,涂布于基板SUB上,形成薄膜之薄膜形成装置1。于基板SUB上具备具有吐出前述涂布液L之液滴吐出喷头2的吐出机构,和可相对移动该液滴吐出喷头2和基板SUB之位置的移动机构4,和控制吐出机构及移动机构4之至少一方的控制部C。在涂布于基板SUB上之涂布液之附近,具有供给溶剂蒸气的溶剂蒸气供给机构5。
申请公布号 TWI224359 申请公布日期 2004.11.21
申请号 TW092103557 申请日期 2003.02.20
申请人 精工爱普生股份有限公司 发明人 樱田和昭
分类号 H01L21/027;B05C11/06;G03F7/16 主分类号 H01L21/027
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路二段一二五号七楼
主权项 1.一种薄膜形成装置,属于在于溶剂中,将膜材料被 溶解或分散所成之涂布液,涂布于基板上,形成薄 膜之薄膜形成装置,其特征系于前述基板上具备具 有吐出前述涂布液之液滴吐出喷头的吐出机构,和 可相对移动该液滴吐出喷头和前述基板之位置的 移动机构,和控制前述吐出机构及前述移动机构之 至少一方的控制部;在涂布于前述基板上之涂布液 之附近,具有供给溶剂蒸气的溶剂蒸气供给机构。 2.如申请专利范围第1项之薄膜形成装置,其中,前 述溶剂蒸气供给机构系该供给之溶剂蒸气之浓度, 较涂布于基板上之涂布液之中央部,周边部为高地 供给溶剂蒸气者。 3.如申请专利范围第1项或第2项之薄膜形成装置, 其中,前述溶剂蒸气供给机构系具备被覆至少基板 之表面侧的覆盖,和于此覆盖内供给溶剂蒸气之供 给手段而构成者。 4.如申请专利范围第1项或第2项之薄膜形成装置, 其中,前述控制部系控制吐出机构所进行之吐出动 作及移动机构所进行之移动动作之至少一方,改变 前述涂布液之涂布条件,控制前述薄膜之膜厚者。 5.一种液晶装置之制造装置,属于于一对之基板间, 挟持液晶之液晶装置之制造装置中,其特征系具备 如申请专利范围第1项~第4项之任一项记载之薄膜 形成装置, 该薄膜形成装置为形成至少一种形成于前述基板 上的薄膜。 6.一种薄膜构造体之制造装置,属于在于基板上,形 成薄膜构造体之制造装置中,其特征系具备如申请 专利范围第1项~第4项之任一项记载之薄膜形成装 置, 该薄膜形成装置为形成至少一种形成于前述基板 上的薄膜。 7.一种薄膜形成方法,属于在于溶剂中,将膜材料被 溶解或分散所成之涂布液,涂布于基板上,形成薄 膜之薄膜形成方法,其特征系使用如申请专利范围 第1项~第4项之任一项记载之薄膜形成装置, 由液滴吐出喷头向基板上吐出前述涂布液之后,在 于由前述溶剂蒸气供给机构吐出之涂布液之附近, 供给溶剂蒸气者。 8.一种液晶装置之制造方法,属于在于一对之基板 间,挟持液晶之液晶装置之制造方法中,其特征系 使用如申请专利范围第7项之薄膜形成方法,形成 至少一种形成于前述基板上之薄膜者。 9.一种薄膜构造体之制造方法,属于在于基板上形 成薄膜之薄膜构造体之制造方法,其特征系使用如 申请专利范围第7项之薄膜形成方法,形成至少一 种形成于前述基板上之薄膜者。 10.一种具有显示装置之电子机器,其特征系将如申 请专利范围第8项记载之方法所制造之液晶装置, 或如申请专利范围第9项记载之方法所制造之薄膜 构造体做为显示手段而具备者。 图式简单说明: 【图1】为说明本发明之薄膜形成装置之一例之概 略构成之侧面图。 【图2】为说明图1所示薄膜形成装置之主要部分 之概略构成之斜视图。 【图3】为说明液滴吐出喷头之概略构成之图,(a) 为主要部斜视图、(b)为主要部侧剖面图。 【图4】显示适用本发明所形成之液晶装置之一例 之概略构成的侧剖面图。 【图5】说明改变液滴吐出喷头之角度时之喷嘴间 隔图。 【图6】为说明本发明之薄膜形成装置之外之例的 主要部之概略构成斜视图。 【图7】显示具备显示手段之电子机器之具体例图 ,(a)乃显示适用于携带电话时之一例的斜视图、(b) 乃显示适用于资讯处理装置时之一例的斜视图、( c)乃显示适用于手表型电子机器时之一例的斜视 图。 【图8】(a)、(b)乃为说明以往之涂布法之课题的侧 面图。
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