发明名称 积体电路记忆卡(二) IC MEMORY CARD
摘要 【物品用途】本创作系有关于一种用于记忆装置使用之「积体电路记忆卡(二)」之新式样设计。【创作特点】如图所示,由立体图观之,本创作之积体电路记忆卡(二)呈一方形片状体,其上方部之宽度较小,且有一向上开口的凹槽,下方有一凹入平面且与上上之凹槽连接,由后视图观之上方部分两侧各有一导槽,且各岛槽下方各具有一凹槽。整体而言,本创作造形简洁俐落美观、且式样新颖具独创性,实为一特殊且实用之新式样设计。上述说明仅供辅助了解本创作而非用以限制其内容;理应明了,新式样系就其整体形状、花纹或色彩指定之,且系以申请专利范围所界定者为准。
申请公布号 TWD101515 申请公布日期 2004.11.21
申请号 TW092302060 申请日期 2003.04.14
申请人 松下电器产业股份有限公司;东芝股份有限公司;圣迪斯克公司 SANDISK CORPORATION 美国 发明人 山田博之;中村穰;本广幸;汉姆.塔基亚;罗伯.米勒
分类号 主分类号
代理机构 代理人 恽轶群 台北市松山区南京东路三段二四八号七楼;陈文郎 台北市松山区南京东路三段二四八号七楼
主权项 如图所示「积体电路记忆卡(二)」之新式样。 图式简单说明: 第1图所示系本创作之立体图; 第2图所示系本创作之前视图; 第3图所示系本创作之后视图; 第4图所示系本创作之左侧视图; 第5图所示系本创作之右侧视图; 第6图所示系本创作之俯视图; 第7图所示系本创作之仰视图; 第8图所示系本创作沿第2图中直线A-A'所取的剖面 示意图;以及 第9图所示系本创作沿第2图中直线B-B'所取的剖面 示意图。
地址 日本