Projektionsobjektiv, mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage und Verfahren zur Herstellung einer Halbleiterschaltung

摘要

Ein Projektionsobjektiv für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage (10) hat mehrere optische Elemente (M1 bis M6) und Temperiermittel (34, 36) zum Einstellen einer zumindest annähernd homogenen Temperatur in wenigstens einem der optischen Elemente (M6). Dieses wenigstens eine optische Element (M6) enthält ein Material, dessen thermischer Ausdehnungskoeffizient (alpha) bei einer Nulldurchgangs-Temperatur (T¶0¶) ein Betragsminimum hat. Mit den Temperiermitteln (34, 36) läßt sich als Temperatur zumindest annähernd die Nulldurchgangs-Temperatur (T¶0¶) zumindest auf einer Projektionslicht (161, 162) ausgesetzten Oberfläche (46) des wenigstens einen optischen Elements (M6) einstellen. Ein verschwindender oder betragsmäßig wenigstens minimaler thermischer Ausdehnungskoeffizient bei der Temperatur T¶0¶ ist deswegen vorteilhaft, weil auf diese Weise weder kleinere Temperaturschwankungen des gesamten optischen Elements (M6) noch Inhomogenitäten der Temperaturverteilung innerhalb des optischen Elements (M6) zu einer nennenswerten thermischen Verformung des Elements (M6) und damit zu Abbildungsfehlern führen können.