| 摘要 |
La présente invention concerne une pointe (5) destinée à un capteur pour microscope à champ proche remarquable en ce que ladite pointe est en carbure de silicium massif.Un autre objet de l'invention concerne un capteur constitué d'une pointe (5) selon l'invention solidaire d'un support (6).Un dernier objet de l'invention concerne un procédé de fabrication d'au moins une pointe (5) destinée à un capteur, remarquable en ce qu'il comporte au moins les étapes suivantes de :- formation d'une couche formant un masque (1) sur un substrat massif (2) en carbure de silicium,- formation d'au moins une saignée traversante (3) dans la couche de masque (1), ladite saignée (3) présentant un chemin fermé,- gravure du substrat massif (2) à travers la saignée (3) de la couche de masque (1) afin de former un creux (4) partiellement fermé délimitant une pointe (5) dans le substrat massif (2),- retrait de la couche de masque (1), et- détachement de la pointe (5) seule ou avec son support. |
