发明名称 ALKALINE DEVELOPING TYPE NEGATIVE PHOTOSENSITIVE POLYAMIC ACID COMPOSITION
摘要 <P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an alkali-soluble negative photosensitive composition by using a polyamic acid having no specified structure. <P>SOLUTION: The composition contains: (a) a polyamic acid; (b) a photoacid generating agent; (c) a crosslinking agent; and (d) an organic solvent. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI
申请公布号 JP2004325540(A) 申请公布日期 2004.11.18
申请号 JP20030116661 申请日期 2003.04.22
申请人 JSR CORP 发明人 UEDA MITSURU;SHIBAZAKI YUJI;WATANABE YASUSHI
分类号 G03F7/038;H01L21/027 主分类号 G03F7/038
代理机构 代理人
主权项
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