发明名称 | 磁存储媒体及其制造方法和磁盘设备 | ||
摘要 | 一种磁盘媒体的表面被平滑,该磁盘媒体表面由一个表面含有沟槽和平地的衬底组成。非磁性垫层(3)和磁记录层(4)制备在包括沟槽(8)和平地(9)的衬底(2)上。平滑非磁性膜(5)被沉积用来填充被非磁性垫层(3)和磁记录层(4)所覆盖的沟槽(8),使得平滑非磁性膜(5)可以到达与平地(9)上的磁记录层(4)高度相同的水平上。 | ||
申请公布号 | CN1176457C | 申请公布日期 | 2004.11.17 |
申请号 | CN99816687.1 | 申请日期 | 1999.05.28 |
申请人 | 富士通株式会社 | 发明人 | 竹下弘人;山岸互 |
分类号 | G11B5/66;G11B5/82;G11B5/85 | 主分类号 | G11B5/66 |
代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 王永刚 |
主权项 | 1.一种磁存储媒体,包括:其上形成沟槽和平地的衬底;层压在所述衬底上的磁膜;以及沉积在所述沟槽上的所述磁膜上、沉积到位置比衬底的平地更高的非磁性膜,其中该磁膜形成在衬底的沟槽中,所述非磁性膜由比所述磁膜的材料熔点低的材料形成。 | ||
地址 | 日本神奈川 |