发明名称 制备正性光敏抗蚀剂组合物的方法
摘要 本发明提供制备金属离子含量低的TPPA的方法,采用了处理过的离子交换树脂。还提供了从这种TPPA制备光敏抗蚀剂组合物的方法,以及采用这种光敏抗蚀剂组合物生产半导体器件的方法。
申请公布号 CN1176404C 申请公布日期 2004.11.17
申请号 CN01110986.6 申请日期 1996.09.25
申请人 克拉里安特国际有限公司 发明人 M·D·拉曼;D·P·奥宾
分类号 G03F7/004 主分类号 G03F7/004
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人 黄淑辉
主权项 1.一种制备正性光敏抗蚀剂组合物的方法,包括:a)用去离子水清洗酸性离子交换树脂,随后用无机酸溶液清洗,再用去离子水清洗,从而降低离子交换树脂中钠和铁离子含量至各低于200ppb;b)用去离子水清洗阴离子交换树脂,随后用无机酸溶液清洗,再用去离子水清洗,然后用氢氧化铵溶液清洗,再用去离子水清洗,从而降低阴离子交换树脂中钠和铁离子含量至各低于200ppb;c)制备在去离子水中的4,4′-[1-[4-[1-(4-羟基苯基)-1-甲基乙基]苯基]-1,1-亚乙基]双酚(TPPA)浆,固含量1-20%,并过滤得到滤饼;d)将滤饼倒入去离子水中,再制备浆液,固含量1-20%,并过滤;e)制备TPPA的滤饼在极性溶剂或极性溶剂混合物中的溶液;f)将TPPA溶液通过所述酸性离子交换树脂,随后通过所述阴离子交换树脂,从而降低所述TPPA溶液中的金属离子含量至各低于100ppb;g)将TPPA溶液加入去离子水中,从而沉淀出TPPA;h)通过过滤器过滤TPPA,并且干燥TPPA;i)通过提供以下组分的混合物制备光敏抗蚀剂组合物: 1)足以光敏化光敏抗蚀剂组合物的光敏组分; 2)金属离子含量十分低的不溶于水而溶于碱水的成膜性酚醛清 漆树脂; 3)由以上步骤a)至h)获得的纯化的TPPA; 4)光敏抗蚀剂溶剂。
地址 瑞士穆坦兹