减少透镜像差与图案移位之光罩与方法

摘要

一种可减少透镜像差与图案移位之光罩，包括一透光基底与一遮光层，该遮光层设置于该透光基底上，且具有一阵列图案区与复数个辅助图案，上述辅助图案系设置于该阵列图案区内且其中各辅助图案与其上方及下方之两阵列图案等距，并使上述辅助图案之长度与上述阵列图案之宽度相等。一种可减少透镜像差与图案移位之方法，包括下列步骤：提供一半导体基底，于该半导体基底上覆盖有一光阻层，藉由一光罩在该光阻层中形成图案，其中该光罩具有一阵列图案区与复数个辅助图案，上述辅助图案系设置于该阵列图案区内且其中各辅助图案与其上方及下方之两阵列图案等距，并使上述辅助图案之长度与上述阵列图案之宽度相等，以上述图案化光阻为罩幕，进行一蚀刻步骤以在该半导体基底中形成一阵列沟槽区。依照本发明之光罩与方法，可使阵列图案间之关键尺寸获得较佳之一致性，且能有效减少图案移位的现象。