| 摘要 |
本发明提供一种微影投影设备，其包含：–图案化构件，在使用中，其用于根据一所需图案将投影束图案化为经图案化之射束；–一用于支撑一基板之基板台(WS)；–一用于侦测基板相对于图案化构件之位置之基板对准系统(MS)；–包含至少一光栅(MAR)之该基板，该至少一光栅(MAR)具有一绕射长度，且被配置成：在使用中，可藉由在该绕射长度上与入射光学射束(IB；IB2)相互作用来产生构成绕射束(DB1，DB2)之至少一绕射级；–基板对准系统(MS)，其包含一用于产生入射光学射束(IB；IB2)之来源及一用于将该至少一绕射级成像于一感应器装置(DET)上之光学装置(1)；–包含孔径构件(TA)之该光学装置(1)，孔径构件(TA)在预定位置处具有一孔径(PH1，PH2)以允许所构成绕射束(DB1，DB2)通过；–其中，该等所构成绕射束(DB1，DB2)中的每一射束都在该孔径(PH1，PH2)之一水平面上具有一绕射束直径(BD1，BD2)，该等所构成绕射束(DB1，DB2)中的每一射束之该绕射束直径(BD1，BD2)都大于该孔径(PH1，PH2)之一直径。 |
